Тензорезистивный эффект в тонких пленках Cr, Ni, Cr/Ni и Ge

Проценко, Иван Ефимович; Однодворец, Лариса Валентиновна; Чорноус, Анатолий Николаевич

Please use this identifier to cite or link to this item: http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/1004

Or use following links to share this resource in social networks: Recommend this item

Title	Тензорезистивный эффект в тонких пленках Cr, Ni, Cr/Ni и Ge
Authors	Protsenko, Ivan Yukhymovych Odnodvorets, Larysa Valentynivna Chornous, Anatolii Mykolaiovych
ORCID	http://orcid.org/0000-0003-3351-9303 http://orcid.org/0000-0002-8112-1933 http://orcid.org/0000-0002-5009-5445
Keywords	коэффициент тензочувствительности деформация сжатия и растяжения коефіцієнт тензочутливості деформація на розтяг і стиснення coefficient of tensosensibility deformation of tension and compression
Type	Article
Date of Issue	1996
URI	http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/1004
Publisher
License	Copyright not evaluated
Citation	Проценко, И.Е. Тензорезистивный эффект в тонких пленках Cr, Ni, Cr/Ni и Ge [Текст] / И.E. Проценко, Л.В. Однодворец, А.Н. Чорноус // Металлофизика и новейшие технологии. - 1996. - Т. 18, №12. - С. 61-64.
Abstract	Изучен тензорезистивный эффект в поликристаллических (Cr, Ni, Cr/Ni), аморфных и высокодисперсных (Ge) пленках в условиях деформации на растяжение и сжатие. Симметричный характер деформационной зависимости для исследованных пленок можно объяснить в терминах изменения концентрации носителей электрического тока (в случае Cr, Ni, Cr/Ni и a-Ge) и ширины запрещенной зоны (в случае a-Ge). // Укр. версія: Вивчено тензорезистивний ефект в полікристалічних (Cr, Ni, Cr/Ni), аморфних та високодисперсних (Ge) плівках в умовах деформації на розтяг і стиснення. Симетричний характер деформаційної залежності для досліджених плівок можна пояснити зміною концентрації носіїв електричного струму (у випадку Cr, Ni, Cr/Ni та a-Ge) та ширини забороненої зони (у випадку a-Ge). При цитировании документа, используйте ссылку http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/1004
Appears in Collections:	Наукові видання (ЕлІТ)