Процессы прохождения пучков заряженных частиц в материальных средах

Воробьев, Геннадий Савельевич; Пономарева, Анна Александровна; Барсук, Иван Владимирович; Остапенко, Ю.О.

Please use this identifier to cite or link to this item: http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/27619

Or use following links to share this resource in social networks: Recommend this item

Title	Процессы прохождения пучков заряженных частиц в материальных средах
Authors	Vorobiov, Hennadii Saveliiovych Ponomarova, Hanna Oleksandrivna Barsuk, Ivan Volodymyrovych Остапенко, Ю.О.
ORCID
Keywords	ионная литография іонна літографія ion lithography оптическая литография оптична літографія optical lithography
Type	Conference Papers
Date of Issue	2012
URI	http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/27619
Publisher	Издательство СумГУ
License	Copyright not evaluated
Citation	Процессы прохождения пучков заряженных частиц в материальных средах [Текст] / Г.С. Воробьев, А.А. Пономарева, И.В. Барсук, Ю.О. Остапенко // Фізика, електроніка, електротехніка : матеріали та програма науково-технічної конференції, м. Суми, 16-21 квітня 2012 р. / Відп. за вип. С.І. Проценко. - Суми : СумДУ, 2012. - С.68.
Abstract	В связи с ограничениями оптической литографии, связанными с явлением дифракции, сравнительно недавно появилась технология нового поколения – ионная литография, в которой применяется прямое экспонирование сфокусированным пучком заряженных частиц. Определенный интерес в разработке таких литографических технологий высокого разрешения связан с возможностью преодоления трудностей при создании структур с размерами ниже 100 нм. При цитировании документа, используйте ссылку http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/27619
Appears in Collections:	Наукові видання (ЕлІТ)