Контрольоване поверхневою кінетикою визрівання Оствальда пласких включень на межі зерен

Коропов, О.В.

Please use this identifier to cite or link to this item: http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/35845

Or use following links to share this resource in social networks: Recommend this item

Title	Контрольоване поверхневою кінетикою визрівання Оствальда пласких включень на межі зерен
Other Titles	Surface-Kinetics-Controlled Ostwald Ripening of Plane Precipitates at Grain Boundaries Контролируемое поверхностной кинетикой созревание Оствальда плоских включений на границе зерен
Authors	Коропов, О.В.
ORCID
Keywords	Визрівання Оствальда Коалесценція Зародки Включення другої фази Атоми домішки Дифузія Поверхнева кінетика Критичний радіус Пересичення Функція розподілу включень за розмірами Густина включень Коефіцієнт заповнення Ostwald Ripening Созревание Оствальда Коалесценция Зародыши Включения второй фазы Атомы примеси Диффузия Поверхностная кинетика Критический радиус Пересыщение Функция распределения включений по размерам Плотность включений Коэффициент заполнения Coarsening Nuclei Precipitates Impurity Atoms Diffusion Surface Kinetics Critical Radius Supersaturation Precipitate Size Distribution Function Precipitate Density Factor of Filling
Type	Article
Date of Issue	2014
URI	http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/35845
Publisher	Сумський державний університет
License
Citation	Коропов, О.В. Контрольоване поверхневою кінетикою визрівання Оствальда пласких включень на межі зерен [Текст] / О.В. Коропов // Журнал нано- та електронної фізики. — 2014. — Т.6, №1. — 01025.
Abstract	Здійснено аналітичний аналіз визрівання Оствальда (коалесценції) пласких включень другої фази на межі зерен для випадку, коли ріст включень контролюється поверхневою кінетикою. Знайдені асимптотичні характеристики процесу визрівання Оствальда. При цитуванні документа, використовуйте посилання http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/35845 Проведен аналитический анализ созревания Оствальда (коалесценции) плоских включений второй фазы на границе зерен в случае, когда рост включений контролируется поверхностной кинетикой. Найдены асимптотические характеристики процесса созревания Оствальда. При цитировании документа, используйте ссылку http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/35845 Ostwald ripening (coarsening) of plane precipitates was analytically analyzed at a grain boundary for the case when the precipitates growth is controlled by surface kinetics. Asymptotic characteristics of Ostwald ripening are found. When you are citing the document, use the following link http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/35845
Appears in Collections:	Журнал нано- та електронної фізики (Journal of nano- and electronic physics)