Определение комплексного показателя преломления эталона для измерения коэффициента отражения

Шкалето, В.И.; Копач, Г.И.; Зайцев, Р.В.

Please use this identifier to cite or link to this item: http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/36015

Or use following links to share this resource in social networks: Recommend this item

Title	Определение комплексного показателя преломления эталона для измерения коэффициента отражения
Other Titles	Definition of the Complex Refractive Index of an Etalon for Measuring the Reflection Coefficient Визначення комплексного показника за ломлення еталона для вимірювання коефіцієнта відбиття
Authors	Шкалето, В.И. Копач, Г.И. Зайцев, Р.В.
ORCID
Keywords	Комплексный показатель преломления Обратная задача оптики Комплексний показник заломлення Спектрофотометр Зворотна задача оптики Complex refractive index Spectrophotometer Inverse problem of optics
Type	Article
Date of Issue	2014
URI	http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/36015
Publisher	Сумской государственный университет
License	Copyright not evaluated
Citation	В.И. Шкалето, Г.И. Копач, Р.В. Зайцев, Ж. нано- жлектрон. физ. 6 No 2, 02013 (2014)
Abstract	У роботі описані методи визначення комплексного показника заломлення непрозорих об'єктів за результатами виміру коефіцієнтів відбиття при двох різних кутах падіння. Наведено оптичні схеми приставок до спектрофотометра СФ - 46 для виміру коефіцієнта відбиття абсолютним і відносним мет о- дами. Обґрунтовано вибір матеріалу еталона для вимірів відбиття відносним методом. Дано алгоритм програми «Back Tas k Optic» для визначення комплексного показника заломлення за результатами оптичних вимірів. Наведено результати вимірів коефіцієнтів проходження світла крізь приставки для визначення параметрів дзеркал еталона і його показника заломлення. При цитуванні документа, використовуйте посилання http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/36015 В работе предложены методы определения комплексного показателя преломления непрозрачных объектов по результатам измерения коэффициент ов отражения при двух различных углах падения.Приведены оптические схемы приставок к спектрофотометру. СФ для измерения коэффициента отражения абсолютным и относительным методами. Обоснован выбор материала эталона при измерениях коэффициента отражения о тносительным методом. Дан алгоритм программы «Back Task Optic» для определения комплексного показателя преломления по результатам оптических измерений. Представлены результаты измерений коэффициента пропускания приставок для определения пар а- метров зеркал э талона и их пока зателя преломления. При цитировании документа, используйте ссылку http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/36015 The paper presents a general method of modeling the electron beam formation processes in the axiallysymmetric systems. This method is based on the experimental current-voltage characteristics of a typical three-electrode electron-optical system, on the numerical analysis of the electric fields in the electrode gap and on the trajectory analysis in the previously calculated fields. The method is tested by numerical experiments at predetermined intervals of the real voltages on the focusing electrodes and can be recommended for the practical realization of the electron-beam devices for different purposes. When you are citing the document, use the following link http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/36015
Appears in Collections:	Журнал нано- та електронної фізики (Journal of nano- and electronic physics)