Please use this identifier to cite or link to this item: http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/39090
Or use following links to share this resource in social networks: Recommend this item
Title The Influence of the Ion Implantation of Au– to the Microstructure of the Amorphous-nanocrystaline AlN-TiB2-TiSi2
Other Titles Влияние ионной имплантации Au–на микроструктуру аморфно-нанокристаллического AlN-TiB2-TiSi2
Вплив іонної імплатнації Au–на мікроструктуру аморфно-нанокристалічного AlN-TiB2-TiSi2
Authors Smyrnova, K.V.
Demianenko, А.A.
Radko, A.S.
Pshyk, A.V.
Kuzovlev, O.V.
Amekura, H.
Oyoshi, K.
Takeda, Y.
ORCID
Keywords Ion implantation
Nanocrystallites
Amorphous structures
Vacancy Loops
Interstitial types
Іонна імплантація
Нанокристаліти
Аморфна структура
Петлі вакансійного та міжвузельного типу
Ионная имплантация
Нанокристаллиты
Аморфная структура
Петли вакансионного и межузельного типа
Type Article
Date of Issue 2015
URI http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/39090
Publisher Sumy State University
License
Citation K.V. Smyrnova, А.A. Demianenko, A.S. Radko, et al., J. Nano- Electron. Phys. 7 No 1, 01040 (2015)
Abstract Прямі вимірювання за допомогою TEM, HRTEM, XRD и SEM з мікроаналізом показали, що термічний відпал при 1300 °С на повітрі призводить до утворення нанорозмірних фаз 10÷15 нм з AlN, AlB2, Al2O3 і TiO2, а іонна імплантація негативних іонів Au- призводить до фрагментації (зменшення) розмірів нанозерен до 2-5 нм з утворенням «сфероїдів» з Au– і формуванню аморфної оксидної плівки в глибині (приповерхневому шарі) покриття.
Прямые измерения с помощью TEM, HRTEM, XRD и SEM с микроанализом показали, что термический отжиг 1300 С на воздухе приводит к образованию наноразмерных фаз 1015 нм из AlN, AlB2, Al2O3 и TiO2, а ионная имплантация отрицательных ионов Au- приводит к фрагментации (уменьшению) размеров нанозерен до 2-5 нм с образованием «сфероидов» из Au– и формированию аморфной оксидной пленки в глубине (приповерхностном слое) покрытия.
Direct measurements were performed using TEM, HRTEM, XRD and SEM with microanalysis. The results showed that the thermal annealing at 1300 С in air leads to the formation of nanoscale phases 1015 nm from AlN, AlB2, Al2O3 and TiO2. Moreover, the ion implantation of the negative ions Au– causes fragmentation (decrease) of the size of nanograins to 2-5 nm with the formation of Au– clusters. In addition, the ion implantation leads to the formation of an amorphous oxide film in the depth (at the undersurface layer) of the coating.
Appears in Collections: Журнал нано- та електронної фізики (Journal of nano- and electronic physics)

Views

Canada Canada
1
China China
5
France France
2
Germany Germany
6
Greece Greece
1
Hungary Hungary
1
Iran Iran
1
Ireland Ireland
26731
Italy Italy
2
Japan Japan
1
Kazakhstan Kazakhstan
1
Lithuania Lithuania
1
Netherlands Netherlands
1725
Philippines Philippines
1
Singapore Singapore
16772375
Slovakia Slovakia
1
Sweden Sweden
1
Taiwan Taiwan
1
Turkey Turkey
1
Ukraine Ukraine
627637
United Kingdom United Kingdom
318991
United States United States
11777907
Unknown Country Unknown Country
627636

Downloads

Canada Canada
1
China China
30153032
France France
1
Germany Germany
13795
Greece Greece
1
Hong Kong SAR China Hong Kong SAR China
1
India India
1
Ireland Ireland
1
Japan Japan
30153033
Lithuania Lithuania
1
Philippines Philippines
1
Singapore Singapore
1
South Africa South Africa
1
Ukraine Ukraine
1788972
United Kingdom United Kingdom
1
United States United States
30153031
Unknown Country Unknown Country
30153030
Uzbekistan Uzbekistan
3

Files

File Size Format Downloads
Smyrnova_Demianenko.pdf 657.75 kB Adobe PDF 122414907

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.