The Influence of the Ion Implantation of Au– to the Microstructure of the Amorphous-nanocrystaline AlN-TiB2-TiSi2

Abstract

Прямі вимірювання за допомогою TEM, HRTEM, XRD и SEM з мікроаналізом показали, що термічний відпал при 1300 °С на повітрі призводить до утворення нанорозмірних фаз 10÷15 нм з AlN, AlB2, Al2O3 і TiO2, а іонна імплантація негативних іонів Au- призводить до фрагментації (зменшення) розмірів нанозерен до 2-5 нм з утворенням «сфероїдів» з Au– і формуванню аморфної оксидної плівки в глибині (приповерхневому шарі) покриття.

Прямые измерения с помощью TEM, HRTEM, XRD и SEM с микроанализом показали, что термический отжиг 1300 С на воздухе приводит к образованию наноразмерных фаз 1015 нм из AlN, AlB2, Al2O3 и TiO2, а ионная имплантация отрицательных ионов Au- приводит к фрагментации (уменьшению) размеров нанозерен до 2-5 нм с образованием «сфероидов» из Au– и формированию аморфной оксидной пленки в глубине (приповерхностном слое) покрытия.

Direct measurements were performed using TEM, HRTEM, XRD and SEM with microanalysis. The results showed that the thermal annealing at 1300 С in air leads to the formation of nanoscale phases 1015 nm from AlN, AlB2, Al2O3 and TiO2. Moreover, the ion implantation of the negative ions Au– causes fragmentation (decrease) of the size of nanograins to 2-5 nm with the formation of Au– clusters. In addition, the ion implantation leads to the formation of an amorphous oxide film in the depth (at the undersurface layer) of the coating.