Лазерная атомно-эмиссионная спектроскопия металлических покрытий полупроводников

Ермалицкая, К.Ф.

Please use this identifier to cite or link to this item: http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/40650

Or use following links to share this resource in social networks: Recommend this item

Title	Лазерная атомно-эмиссионная спектроскопия металлических покрытий полупроводников
Authors	Ермалицкая, К.Ф.
ORCID
Keywords	кремниевая пластина кремнієва пластина silicon wafer лазерная спектроскопия лазерна спектроскопія laser spectroscopy вакуумное напыление вакуумне напилення physical vapor deposition
Type	Conference Papers
Date of Issue	2015
URI	http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/40650
Publisher	Сумский государственный университет
License	Copyright not evaluated
Citation	Ермалицкая, К.Ф. Лазерная атомно-эмиссионная спектроскопия металлических покрытий полупроводников [Текст] / К.Ф. Ермалицкая // Фізика, електроніка, електротехніка: матеріали та програма науково-технічної конференції, м. Суми, 20-25 квітня 2015 р. / Відп. за вип. С.І. Проценко. — Суми: СумДУ, 2015. — С. 43-44.
Abstract	PVD (physical vapor deposition) – покрытия являются одним из наиболее распространенных способов улучшения характеристик (коррозионной стойкости, микротвердости, износостойкости, срока службы и др.) промышленных изделий. В большинстве случаев данные покрытия наносятся на объекты из металлов и сплавов, однако в последнее время напыление осуществляется и на неметаллическую основу.
Appears in Collections:	Наукові видання (ЕлІТ)