Дослідження наноплівок As[2]S[3] на Si і SiO[2] методом ЕФС

Маркович, Л.М.; Лінтур, М.І.; Подгорецька, Г.Ю.

Please use this identifier to cite or link to this item: http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/40981

Or use following links to share this resource in social networks: Recommend this item

Title	Дослідження наноплівок As[2]S[3] на Si і SiO[2] методом ЕФС
Authors	Маркович, Л.М. Лінтур, М.І. Подгорецька, Г.Ю.
ORCID
Keywords	наноплівки нанопленки nanofilms пучки електронів пучки электронов electron beams термічне випаровування термическое испарение thermal evaporation дослідження исследование research
Type	Conference Papers
Date of Issue	2015
URI	http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/40981
Publisher	Сумський державний університет
License	Copyright not evaluated
Citation	Маркович, Л.М. Дослідження наноплівок As[2]S[3] на Si і SiO[2] методом ЕФС [Текст] / Л.М. Маркович, М.І. Лінтур, Г.Ю. Подгорецька // Фізика, електроніка, електротехніка: матеріали та програма науково-технічної конференції, м. Суми, 20-25 квітня 2015 р. / Відп. за вип. С.І. Проценко. — Суми: СумДУ, 2015. — C. 138.
Abstract	Поверхня відіграє визначну роль при функціонуванні мікро- або нанооб’єктів, а також при їх взаємодії з підкладинками, на які вони напорошені та з навколишнім середовищем. Тому дослідження поверхонь перспективних наноструктур різними методами є вкрай важливим для сучасної фізики, техніки і технології. Для зондування досліджуваних поверхонь широко застосовуються в наукових дослідженнях пучки електронів.
Appears in Collections:	Наукові видання (ЕлІТ)