Моделирование проникновения ионов в материал при имплантации

Черный, А.А.; Мащенко, С.В.; Гончаров, В.В.

Please use this identifier to cite or link to this item: http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/44281

Or use following links to share this resource in social networks: Recommend this item

Title	Моделирование проникновения ионов в материал при имплантации
Authors	Черный, А.А. Мащенко, С.В. Гончаров, В.В.
ORCID
Keywords	іонна імплантація ионная имплантация ion implantation
Type	Conference Papers
Date of Issue	2013
URI	http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/44281
Publisher	Сумский государственный университет
License
Citation	Черный, А.А. Моделирование проникновения ионов в материал при имплантации [Текст] / А.А. Черный, С.В. Мащенко, В.В. Гончаров // Інформатика, математика, автоматика : матеріали та програма науково-технічної конференції, м. Суми, 22-27 квітня 2013 р. / Відп. за вип. С.І. Проценко. - Суми : СумДУ, 2013. - С. 148.
Abstract	Ионная имплантация занимает одно из ведущих мест среди радиационно-пучковых технологий модифицирования материалов. Благодаря экономичному расходу активных компонентов её применение перспективно не только в микро- и наноэлектронике, но и в технологиях получения катализаторов большого спектра действия.
Appears in Collections:	Наукові видання (ЕлІТ)