Влияние безвакуумного отжига на морфологию покрытий NbNх, NbNx : Si

Рогоз, В.Н.; Кузьменко, А.П.; Соболь, О.В.; Плющик, А.

Please use this identifier to cite or link to this item: http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/45499

Or use following links to share this resource in social networks: Recommend this item

Title	Влияние безвакуумного отжига на морфологию покрытий NbNх, NbNx : Si
Other Titles	Вплив безвакуумного відпалу на морфологію покриттів NbNх, NbNx : Si Influence of Annealing on the Morphology of the Vacuum-free Coatings NbNх, NbNx : Si
Authors	Рогоз, В.Н. Кузьменко, А.П. Соболь, О.В. Плющик, А.
ORCID
Keywords	Морфология Твердость Отжиг NbNх NbNx : Si Фазовый и элементный состав Морфологія Твердість Відпал Фазовий та елементний склад Morphology Hardness Annealing Phase and elemental analysis
Type	Article
Date of Issue	2016
URI	http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/45499
Publisher	Сумский государственный университет
License	Copyright not evaluated
Citation	В.Н. Рогоз, А.П. Кузьменко, О.В. Соболь, А. Плющик, Ж. нано- электрон. физ. 8 № 2, 02019 (2016)
Abstract	В работе описываются особенности изменения нитридных покрытий NbNх и легированных атомами Si NbNx : Si с добавлением примеси кремния и без него. Образцы были получены методом магнетронного осаждения при отрицательном потенциале Us = – 40 В на подложку из кремния. После осаждения проводился высокотемпературный отжиг 800 °С в атмосфере воздуха. У роботі описуються особливості зміни покриття нітриду ніобію з додаванням домішки кремнію і без нього. Зразки були отримані методом магнетронного осадження при негативному потенціалі Us = − 40 В на підкладку з кремнію. Після осадження проводився високотемпературний відпал 800 °С в атмосфері повітря. The paper describes the features of niobium nitride coating changes with the addition of silicon and impurities without him. Samples were prepared by magnetron sputtering at a negative potential Us = − 40 V on silicon substrate, exposed to high temperatures: 800 °C without vacuum.
Appears in Collections:	Журнал нано- та електронної фізики (Journal of nano- and electronic physics)