Characterization Cupper Oxide thin films

Diachenko, Oleksii Viktorovych; Diachenko, Oleksii Viktorovych; Opanasiuk, Anatolii Serhiiovych; Nam, D.; Cheong, H.

Please use this identifier to cite or link to this item: http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/48287

Or use following links to share this resource in social networks: Recommend this item

Title	Characterization Cupper Oxide thin films
Authors	Diachenko, Oleksii Viktorovych Diachenko, Oleksii Viktorovych Opanasiuk, Anatolii Serhiiovych Nam, D. Cheong, H.
ORCID	http://orcid.org/0000-0003-2312-5255 http://orcid.org/0000-0003-2312-5255 http://orcid.org/0000-0002-1888-3935
Keywords	тонкі плівки тонкие пленки thin films оксид Купруму оксид Купрума Cupper Oxide
Type	Conference Papers
Date of Issue	2015
URI	http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/48287
Publisher	Львівський національний університет ім. Івана Франка
License	Copyright not evaluated
Citation	Characterization Cupper Oxide thin filmss [Текст] / O.V. Diachenko, A.S. Opanasuyk, D. Nam, H. Cheong // Нанотехнології та наноматеріали: третя Міжнародна науково-практична конференція (НАНО-2015), м. Львів, 26 - 29 серпня. - Львів : Львівський національний університет ім. Івана Франка, 2015.
Abstract	For obtaining of the CuO thin films have used spray pyrolysis method. Glass plates were cleaned in ultrasonic bath and washed with ethanol, used as a substrates. We used an aqueous solution of copper chloride (CuCl22H2O) with a concentration of 0.05 M as a precursor. The substrate temperature range from 570 to 720 K, with step Т=50 K. For atomization of precursor the air flow with a pressure of 0.25 MPa was used.
Appears in Collections:	Наукові роботи студентів, магістрів, аспірантів (ЕлІТ)