Please use this identifier to cite or link to this item:
http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/65762
Or use following links to share this resource in social networks:
Tweet
Recommend this item
Title | Термодинамічні властивості монокристалів кремнію, легованих домішкою бора |
Other Titles |
Термодинамические свойства монокристаллов кремния, легированных примесью бора Thermodynamic Properties of Monocrystals of Silicon Doped Boron Impurity |
Authors |
Панченко, О.В.
|
ORCID | |
Keywords |
Монокристали кремнію Конфігураційна ентропія Енергія Гіббса Параметр комплексоутворення Домішка бору Monocrystals of silicon Configuration entropy Gibbs energy Parameter of complexformation Impurity of boron Монокристаллы кремния Конфигурационная энтропия Энергия Гиббса Параметр комплексообразования Примесь бора |
Type | Article |
Date of Issue | 2017 |
URI | http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/65762 |
Publisher | Сумський державний університет |
License | |
Citation | Панченко, О.В. Термодинамічні властивості монокристалів кремнію, легованих домішкою бора [Текст] / О.В. Панченко // Журнал нано- та електронної фізики. - 2017. - Т.9, № 1. - 01019. - DOI: 10.21272/jnep.9(1).01019. |
Abstract |
У роботі описуються особливості термодинамічних властивостей монокристалів кремнію, легованих домішкою бору. Встановлено залежність розрахованої конфігураційної ентропії монокристалів від
ступеню легування бором без урахування і з урахуванням параметра комплексоутворення домішки.
Проведено аналіз енергії Гіббса при різних ступенях легування бором. Робота має за мету встановити
вплив утворення комплексів бору на внутрішню енергію кристалу в цілому, розкрити та поглибити
уяву про утворення комплексів домішки бору в монокристалах кремнію. The results of calculations of thermodynamic probability, number of ways of mixture of two components Si–B at different levels doped boron are found. Dependences of configuration entropy from a degree doped atoms of an impurity B and configuration entropy from a degree doped atoms of an impurity in view of complex formation are presented in the work. The results of calculations of Gibbs energy are found. The work aims to determine the effect of the formation of complexes of boron on the internal energy of the crystal as a whole, to discover and deepen the idea of the formation of complexes of boron impurities in silicon monocrystals. В работе предоставлен расчет термодинамической вероятности состояния системы Si–B, т.е. число микросостояний системы при различных степенях легирования примесями. Установлена зависимость конфигурационной энтропии системы Si–B от степени легирования примеси B, а также зависимость конфигурационной энтропии данной системы с учетом комплексообразования примесей. Проведен анализ энергии Гиббса при разных степенях легирования. Работа имеет целью установить влияние образования комплексов бора на внутреннюю энергию кристалла в целом, раскрыть и углубить пред- ставление об образовании комплексов примеси бора в монокристаллах кремния. |
Appears in Collections: |
Журнал нано- та електронної фізики (Journal of nano- and electronic physics) |
Views
China
121330
Germany
1
Ireland
2416
Lithuania
1
Portugal
1
Ukraine
22026
United Kingdom
11203
United States
421663
Unknown Country
22025
Downloads
Germany
1
Lithuania
1
Ukraine
63654
United Kingdom
1
United States
600667
Unknown Country
1
Files
File | Size | Format | Downloads |
---|---|---|---|
jnep_V9_01019.pdf | 371.5 kB | Adobe PDF | 664325 |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.