Аналіз впливу параметрів магнетронного розпилення на формування наноструктурних покриттів TaB2

Шелест, Ігор Владиславович; Кравченко, Ярослав Олегович; Буранич, Володимир Володимирович; Бровко, Д.Ю.

Please use this identifier to cite or link to this item: http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/67912

Or use following links to share this resource in social networks: Recommend this item

Title	Аналіз впливу параметрів магнетронного розпилення на формування наноструктурних покриттів TaB2
Authors	Shelest, Ihor Vladyslavovych Kravchenko, Yaroslav Olehovych Buranych, Volodymyr Volodymyrovych Бровко, Д.Ю.
ORCID	http://orcid.org/0000-0003-0984-1298
Keywords	тонкі покриття тонкие покрытия thin coatings наноструктурні покриття наноструктурные покрытия nanostructured coatings магнетронне розпилення магнетронное распыление magnetron sputtering
Type	Conference Papers
Date of Issue	2018
URI	http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/67912
Publisher	Сумський державний університет
License
Citation	Аналіз впливу параметрів магнетронного розпилення на формування наноструктурних покриттів TaB2 [Текст] / І.В. Шелест, В.В. Буранич, Д.Ю. Бровко, Я.О. Кравченко // Фізика, електроніка, електротехніка: матеріали та програма науково-технічної конференції, м. Суми, 5-9 лютого 2018 р. / Відп. за вип. С.І. Проценко. – Суми: СумДУ, 2018. – С. 49.
Abstract	Тонкі покриття на основі боридів перехідних металів мають високу температуру плавлення та твердість, і знайшли широкий діапазон використання у різних галузях промисловості, за рахунок ефективного підвищення захисних властивостей. Для нанесення даних покриттів високу популярність здобув метод нереактивного магнетронного розпилення композиційних мішеней за участю іонного бомбардування, за рахунок високої варіативності в плані регулювання параметрів.
Appears in Collections:	Наукові видання (ЕлІТ)