Please use this identifier to cite or link to this item: https://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/77139
Or use following links to share this resource in social networks: Recommend this item
Title Photovoltaic Characterization of Si and SiGe Surfaces Sonochemically Treated in Dichloromethane
Other Titles Фото-ЕРС на поверхнях Si та SiGe при сонохімічній обробці у дихлорметані
Authors Shmid, V.
Podolian, A.
Nadtochiy, A.
Yazykov, D.
Semen'ko, M.
Korotchenkov, O.
ORCID
Keywords SiGe
фото-ЕРС
пасивація поверхні
сонохімія
photovoltage
surface passivation
sonochemistry
Type Article
Date of Issue 2020
URI https://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/77139
Publisher Sumy State University
License
Citation Photovoltaic Characterization of Si and SiGe Surfaces Sonochemically Treated in Dichloromethane [Текст] / V. Shmid, A. Podolian, A. Nadtochiy [et al.] // Журнал нано- та електронної фізики. – 2020. – Т. 12, № 1. – 01023. – DOI: 10.21272/jnep.12(1).01023.
Abstract Процеси рекомбінації та захоплення електронів і дірок через поверхневі центри рекомбінації та захоплення суттєво впливають на ефективність різних фотоелектричних пристроїв. Через це у процесі виробництва таких пристроїв значну увагу приділяють пасивації поверхонь. Різні аспекти пасивації поверхні Si та SiGe достатньо широко розглянуті в літературі. Зокрема, показано, що сонохімічна обробка поверхні, наприклад. в хлороформі (CHCl3), може значно покращити фотоелектричний відгук. У даній роботі показано, що й інший карбон-місткий реакційноздатний поверхневий травник, дихлорметан (CH2Cl2), використаний у сонохімічному реакторі, може ефективно впливати на величину поверхневої фото-ЕРС в зразках Si та SiGe. Дослідження рентгенівської дифракції показали, що шар сплаву Si-Ge утворює тверді розчини Si в Ge (що містить приблизно 59 ат. % Si) та Ge в Si (наближено 90 ат. % Si). У монокристалічному Si отримано збільшення на порядок величини сигналу фото-ЕРС із трохи затягнутою кривою її релаксації. В SiGe це збільшення фотовідгуку складає біля 50 %. На відміну від Si, сонохімічна обробка поверхні SiGe веде до прискорення короткочасної компоненти та уповільнення довготривалої складової сигналу поверхневої фото-ЕРС, що описується подвійною експоненціально спадаючою функцією. Оскільки дихлорметан виступає в якості джерела вуглецю, можна припустити, що звільнений при сонохімічній обробці вуглець ефективно пасивує вільні кремнієві зв’язки. На наш погляд, сонохімічна обробка має потенціал використання для пасивації поверхонь у виробництві сонячних батарей на основі Si та SiGe.
It is well known that the near-surface recombination and trapping of photoexcited free carriers significantly affect the photovoltaic performance. Passivation techniques are therefore in great demand for current photovoltaic technologies. Different aspects of the surface passivation in Si and SiGe were widely addressed. It was particularly concluded that sonochemical surface treatments, e.g. in chloroform (CHCl3), can significantly improve the photovoltaic response. It is shown in this work that another reactive surface etchant containing carbon, dichloromethane (CH2Cl2), placed into the sonochemical reactor can effectively modify the surface photovoltaic response of Si and SiGe surfaces. X-ray diffraction studies revealed that the Si-Ge alloy layer exhibits solid solutions of Si in Ge (approximately 59 % of Si atoms) and Ge in Si (approximately 90 % of Si atoms). An order of magnitude larger photovoltaic signal, which is accompanied by slightly prolonged decay times, is observed in single crystal Si. A 50 % increase in the photovoltaic amplitude is reproduced in SiGe. In contrast to Si, sonochemical treatment of the SiGe surface tends to speed up the short-term component and slow down the long-term component of the double-exponential surface photovoltage signal. As dichloromethane acts as a carbon source, it can be suggested that sonochemically decomposed carbon atoms can effectively passivate silicon dangling bonds. We believe this sonochemical treatment step can be used for the surface passivation in manufacturing Si- and SiGe-based solar cells.
Appears in Collections: Журнал нано- та електронної фізики (Journal of nano- and electronic physics)

Views

Argentina Argentina
1
Austria Austria
1
China China
19063761
France France
1
Germany Germany
1
Ireland Ireland
47982
Japan Japan
1
Lithuania Lithuania
1
Singapore Singapore
1
South Korea South Korea
1
Taiwan Taiwan
186599
Ukraine Ukraine
2982951
United Kingdom United Kingdom
1026305
United States United States
56497438
Unknown Country Unknown Country
1
Vietnam Vietnam
1901

Downloads

Belgium Belgium
1
Canada Canada
1
Germany Germany
1
Indonesia Indonesia
1
Ireland Ireland
1
Lithuania Lithuania
1
Poland Poland
1
Taiwan Taiwan
1
Ukraine Ukraine
4939592
United Kingdom United Kingdom
1
United States United States
79806946
Vietnam Vietnam
1

Files

File Size Format Downloads
Shmid_jnep_2020_1.pdf 359.81 kB Adobe PDF 84746548

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.