Please use this identifier to cite or link to this item:
https://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/78837
Or use following links to share this resource in social networks:
Tweet
Recommend this item
Title | Функціональний металевий елемент гнучкої електроніки спін-клапанного типу |
Authors |
Shabelnyk, Yurii Mykhailovych
Cheshko, Iryna Volodymyrivna Lohvynov, Andrii Mykolaiovych Tkach, Olena Petrivna Protsenko, Serhii Ivanovych |
ORCID |
http://orcid.org/0000-0002-7516-5518 http://orcid.org/0000-0002-1585-6712 http://orcid.org/0000-0001-5496-3345 http://orcid.org/0000-0003-3207-2490 http://orcid.org/0000-0002-8070-1610 |
Keywords |
елемент гнучкої електроніки спін-клапанного типу элемент гибкой электроники спин-клапанного типа element of flexible electronics of spin-valve type багатошарова металева плівка многослойная металлическая пленка multilayer metal film діелектрична підкладка диэлектрическая подложка dielectric substrate |
Type | Patent |
Date of Issue | 2019 |
URI | https://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/78837 |
Publisher | Міністерство економічного розвитку і торгівлі України |
License | In Copyright |
Citation | Пат. 136613 U Україна МПК G01R 33/09 (2006.01). Функціональний металевий елемент гнучкої електроніки спін-клапанного типу / Ю.М. Шабельник, І.В. Чешко, А.М. Логвинов та ін. (Україна); заявник та патентовласник Сумський держ. ун-т. - № u 201902456; заявл. 13.03.2019; опубл. 27.08.2019, бюл. № 16. |
Abstract |
Функціональний металевий елемент гнучкої електроніки спін-клапанного типу, що виконаний у вигляді паралелепіпеда із багатошарової металевої плівки, що складається з магнітних і немагнітних шарів металів, на діелектричній підкладці, який відрізняється тим, що багатошарова металева плівка сформована з немагнітного адгезійного шару Сr товщиною 3 нм, двох контактних немагнітних шарів (нижнього і захисного верхнього) Аu товщиною по 10 нм, нижнього функціонального магнітного шару Со товщиною 20 нм, додатково відпаленого до 950 K, верхнього функціонального магнітного шару, виконаного у вигляді мультишару [Со/Сu]n, в якому Со і Сu мають товщину по 3 нм, де n=4-14 кількість повторів фрагменту мультишару, а також немагнітного шару Сu товщиною 6 нм, та отримана методом пошарової конденсації з наступною термообробкою до температури Tв=700 K, причому діелектрична підкладка виконана із тефлону товщиною від 0,5 до 2 мм. |
Appears in Collections: |
Патенти |
Views
Belgium
1
China
106
Germany
1
Ireland
592
Lithuania
1
Netherlands
52
Singapore
1
Sweden
1
Ukraine
5467
United Kingdom
2735
United States
28828
Downloads
France
589
Ireland
1
Lithuania
1
Romania
1
Singapore
1
Ukraine
10911
United Kingdom
1
United States
28826
Files
File | Size | Format | Downloads |
---|---|---|---|
136613_Shabelnyk.pdf | 331.31 kB | Adobe PDF | 40331 |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.