Please use this identifier to cite or link to this item: https://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/78837
Or use following links to share this resource in social networks: Recommend this item
Title Функціональний металевий елемент гнучкої електроніки спін-клапанного типу
Authors Shabelnyk, Yurii Mykhailovych  
Cheshko, Iryna Volodymyrivna  
Lohvynov, Andrii Mykolaiovych  
Tkach, Olena Petrivna  
Protsenko, Serhii Ivanovych  
ORCID http://orcid.org/0000-0002-7516-5518
http://orcid.org/0000-0002-1585-6712
http://orcid.org/0000-0001-5496-3345
http://orcid.org/0000-0003-3207-2490
http://orcid.org/0000-0002-8070-1610
Keywords елемент гнучкої електроніки спін-клапанного типу
элемент гибкой электроники спин-клапанного типа
element of flexible electronics of spin-valve type
багатошарова металева плівка
многослойная металлическая пленка
multilayer metal film
діелектрична підкладка
диэлектрическая подложка
dielectric substrate
Type Patent
Date of Issue 2019
URI https://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/78837
Publisher Міністерство економічного розвитку і торгівлі України
License In Copyright
Citation Пат. 136613 U Україна МПК G01R 33/09 (2006.01). Функціональний металевий елемент гнучкої електроніки спін-клапанного типу / Ю.М. Шабельник, І.В. Чешко, А.М. Логвинов та ін. (Україна); заявник та патентовласник Сумський держ. ун-т. - № u 201902456; заявл. 13.03.2019; опубл. 27.08.2019, бюл. № 16.
Abstract Функціональний металевий елемент гнучкої електроніки спін-клапанного типу, що виконаний у вигляді паралелепіпеда із багатошарової металевої плівки, що складається з магнітних і немагнітних шарів металів, на діелектричній підкладці, який відрізняється тим, що багатошарова металева плівка сформована з немагнітного адгезійного шару Сr товщиною 3 нм, двох контактних немагнітних шарів (нижнього і захисного верхнього) Аu товщиною по 10 нм, нижнього функціонального магнітного шару Со товщиною 20 нм, додатково відпаленого до 950 K, верхнього функціонального магнітного шару, виконаного у вигляді мультишару [Со/Сu]n, в якому Со і Сu мають товщину по 3 нм, де n=4-14 кількість повторів фрагменту мультишару, а також немагнітного шару Сu товщиною 6 нм, та отримана методом пошарової конденсації з наступною термообробкою до температури Tв=700 K, причому діелектрична підкладка виконана із тефлону товщиною від 0,5 до 2 мм.
Appears in Collections: Патенти

Views

Belgium Belgium
1
China China
106
Germany Germany
1
Ireland Ireland
592
Lithuania Lithuania
1
Netherlands Netherlands
52
Singapore Singapore
1
Sweden Sweden
1
Ukraine Ukraine
5467
United Kingdom United Kingdom
2735
United States United States
28828

Downloads

France France
589
Ireland Ireland
1
Lithuania Lithuania
1
Romania Romania
1
Singapore Singapore
1
Ukraine Ukraine
10911
United Kingdom United Kingdom
1
United States United States
28826

Files

File Size Format Downloads
136613_Shabelnyk.pdf 331.31 kB Adobe PDF 40331

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.