Effect of Energy Factors on the Structure and Substructure Characteristics of Hafnium Diboride Films Deposited by RF Magnetron Sputtering

Abstract

In this paper, the influence of energy factors, such as the bias potential, current density, deposition rate, on the formation of the structure and substructure of hafnium diboride films deposited using RF magnetron sputtering is analysed. As shown, the structural changes from a quasi-amorphous to a nanocrystalline state with a growth texture occur due to changes in energy factors.

В роботі проведено аналіз впливу енергетичних факторів, таких як потенціал зсуву, що подається на підкладку, густина йонного струму на підкладку і швидкість осадження, на формування структури та субструктури плівок диборида гафнію, отриманих ВЧ-магнетронним розпорошенням. Показано, що структурні зміни від квазиаморфного стану до нанокристалічного з текстурою зростання відбуваються внаслідок змін енергетичних факторів.

В работе проведен анализ влияния энергетических факторов, таких как потенциал смещения, подаваемый на подложку, плотность ионного тока на подложку и скорость осаждения, на формирование структуры и субструктуры плёнок диборида гафния, полученных ВЧ-магнетронным распылением. Показано, что структурные изменения от квазиаморфного состояния до нанокристаллического с текстурой роста происходят вследствие изменения энергетических факторов.