Please use this identifier to cite or link to this item: https://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/85953
Or use following links to share this resource in social networks: Recommend this item
Title Spatial Distributions of 3p54s States of Argon Atoms in RF Magnetron Sputtering Plasma with a Collisional-Radiative Model
Other Titles Просторові розподіли станів 3p54s атомів аргону в плазмі високочастотного магнетронного розпилення з радіаційною моделлю зіткнень
Authors Azzaoui, M.
Khelfaoui, F.
Ballah, Z.
ORCID
Keywords радіаційна модель зіткнень
високочастотне магнетронне розпилення
іонізація Пеннінга
дифузійні явища
collisional-radiative model
RF magnetron sputtering
Penning ionization
diffusion phenomena
Type Article
Date of Issue 2021
URI https://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/85953
Publisher Sumy State University
License In Copyright
Citation M. Azzaoui, F. Khelfaoui, Z. Ballah, J. Nano- Electron. Phys. 13 No 5, 05007 (2021). DOI: https://doi.org/10.21272/jnep.13(5).05007
Abstract Тонкі плівки використовуються в різних галузях промисловості, а саме у виробництві сонячних елементів, плоских екранів та для поліпшення фізичних властивостей поверхонь матеріалів. У процесах осадження тонких плівок ступінь рівноваги та інші характеристики плазми, такі як природа, густина і температура, повинні бути визначені, щоб зрозуміти появу різних явищ. У роботі основна увага приділяється вивченню просторових розподілів густин збуджених станів Ar* (3p54s (1sx: x = 2-5)), а також відносних внесків таких процесів, як бомбардування електронами, випромінювальне дезбудження, явища дифузії метастабільних станів та іонізація Пеннінга в популяції та депопуляції різних станів атомів аргону. Для цього радіаційну модель зіткнень (CRM), яка включала 41 стан, було застосовано з використанням заданих параметрів у плазмі високочастотного магнетронного розпилення. Ці параметри включають температуру електронів, густини електронів та іонів аргону. Кінетичні рівняння густин станів привели до матричної системи, яка була розв'язана чисельно за допомогою ітераційного методу Гауса-Зейделя. Результати показують, що осьові розподіли різних збуджених станів та станів на катоді трохи більші, ніж на аноді; вони також показують, що обидві густини менші, ніж у центрі реактора. Іонізація Пеннінга важлива для метастабільних станів 3p54s (1s5, 1s3), але не важлива для резонансних станів 3p54s (1s4, 1s2). Різні густини збуджених станів не є симетричними відносно центру реактора через наявність магнітного поля на катоді.
Thin films are used in various industrial fields, namely in the manufacture of solar cells, flat screens and in improving the physical properties of material surfaces. In thin film deposition processes, the degree of equilibrium and other plasma characteristics such as the nature, density and temperature must be identified in order to understand the occurrence of various phenomena. In this work, the main focus is on studying the spatial distributions of densities of excited states of Ar* (3p54s (1sx: x = 2-5)), as well as the relative contributions of processes such as the electron impact effect, the radiative de-excitation, the diffusion phenomena of metastable states and the Penning ionization in the population and depopulation of different argon atoms states. For this purpose, a Collisional-Radiative Model (CRM) including 41 states was applied using specified parameters in RF magnetron sputtering plasma. These parameters include electron temperature, electron and ion densities of argon. The rate equations of the state densities led to a matrix system that was solved numerically by iterative Gauss-Seidel Method. The results show that the axial distributions of different excited states and those on the cathode side are slightly larger than those found on the anode side, and they show also that both densities are less than at the reactor center. For metastable states 3p54s (1s5, 1s3), the Penning ionization is important, but it is not important for resonant states 3p54s (1s4, 1s2). Different densities of the excited states are not symmetrical with respect to the center of the reactor due to the existence of a magnetic field at the cathode.
Appears in Collections: Журнал нано- та електронної фізики (Journal of nano- and electronic physics)

Views

Algeria Algeria
5756355
Australia Australia
1
China China
228
Greece Greece
1
India India
2394
Ireland Ireland
83105
Lithuania Lithuania
1
Netherlands Netherlands
1
Ukraine Ukraine
580262
United Kingdom United Kingdom
241224
United States United States
12420500
Unknown Country Unknown Country
1
Vietnam Vietnam
569

Downloads

Algeria Algeria
83106
Canada Canada
1
China China
2998789
France France
1
Germany Germany
1
India India
12420502
Ireland Ireland
1
Lithuania Lithuania
1
Pakistan Pakistan
1
Poland Poland
1
South Korea South Korea
1160413
Ukraine Ukraine
1160413
United Kingdom United Kingdom
1
United States United States
12420503
Unknown Country Unknown Country
1
Vietnam Vietnam
1

Files

File Size Format Downloads
Azzaoui_jnep_5_2021.pdf 773.02 kB Adobe PDF 30243736

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.