Please use this identifier to cite or link to this item:
https://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/87651
Or use following links to share this resource in social networks:
Tweet
Recommend this item
Title | Effect of the Conduction Band Offset on the Performance of GaAs/AlxGa1 – xAs Resonant Tunneling Diode |
Other Titles |
Вплив зсуву зони провідності на характеристики резонансного тунельного діода GaAs/AlxGa1 – xAs |
Authors |
Charmi, M.
|
ORCID | |
Keywords |
зсув зони провідності нерівноважна функція Гріна резонансний тунельний діод молярна частка Al квантовий транспорт conduction band offset non-equilibrium Green function (NEGF) resonant Tunneling Diode (RTD) Al mole fraction quantum transport |
Type | Article |
Date of Issue | 2022 |
URI | https://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/87651 |
Publisher | Sumy State University |
License | In Copyright |
Citation | M. Charmi, J. Nano- Electron. Phys. 14 No 2, 02007 (2022). DOI: https://doi.org/10.21272/jnep.14(2).02007 |
Abstract |
У роботі представлено дослідження впливу зсуву зони провідності та молярної частки алюмінію
на характеристики резонансного тунельного діода GaAs/AlxGa1 – xAs з використанням повного квантового моделювання. Моделювання базується на самоузгодженому розв'язанні рівняння Пуассона та рівняння Шредінгера з відкритими граничними умовами в рамках формалізму нерівноважної функції
Гріна. Структура резонансного тунельного діода складається з вузької забороненої зони 2 нм, квантова яма GaAs затиснута між двома тонкими широкозонними бар'єрами з AlGaAs шириною 2 нм. Ці три
шари затиснуті між двома нелегованими роздільними шарами з GaAs шириною 15 нм, які з'єднані з
двома великими резервуарами контактів GaAs з високим вмістом легуючих домішок (1018 см – 3) завширшки 12 нм. Досліджено вплив змінної молярної частки Al на зону провідності, функцію пропускання та вихідним струм. Результати моделювання показують, що характеристики пристрою можуть
бути покращені шляхом правильного вибору молярної частки. This paper presents the effects of conduction band offset and aluminum mole fraction on performance of GaAs/AlxGa1 – xAs resonant tunneling diode using full quantum simulation. The simulation is based on a self-consistent solution of the Poisson equation and Schrodinger equation with open boundary conditions, within the non-equilibrium Green function formalism. A resonant tunneling diode structure consists of a 2 nm narrow band gap, a quantum well of GaAs is sandwiched between two thin wide band gap barriers of AlGaAs with a width of 2 nm. These three layers are sandwiched between two un-doped GaAs spacer layers with a width of 15 nm that are connected to two large reservoirs of high dopant GaAs contacts (1018 cm – 3) with a width of 12 nm. The effects of varying Al mole fraction are investigated in terms of the conduction band, transmission function and output current. Simulation results illustrate that the device performance can be improved by proper selection of the mole fraction. |
Appears in Collections: |
Журнал нано- та електронної фізики (Journal of nano- and electronic physics) |
Views
Australia
1
China
1470002
Finland
76
France
78140305
Germany
511985
Greece
423
India
1
Ireland
263390
Japan
2005
Lithuania
1
South Korea
1
Taiwan
1
Turkey
1
Ukraine
8658024
United Kingdom
4394963
United States
530178087
Unknown Country
1
Vietnam
33186
Downloads
China
62806245
Egypt
1
Germany
4394961
India
62806247
Indonesia
2006
Ireland
1
Japan
65950
Libya
2006
Lithuania
1
Saudi Arabia
1
Serbia
1
South Africa
257
South Korea
32138120
Turkey
1
Ukraine
16804061
United Kingdom
415
United States
530178084
Unknown Country
436703715
Vietnam
33187
Files
File | Size | Format | Downloads |
---|---|---|---|
Charmi_jnep_2_2022.pdf | 285.58 kB | Adobe PDF | 1145935260 |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.