Please use this identifier to cite or link to this item:
https://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/87651
Or use following links to share this resource in social networks:
Tweet
Recommend this item
Title | Effect of the Conduction Band Offset on the Performance of GaAs/AlxGa1 – xAs Resonant Tunneling Diode |
Other Titles |
Вплив зсуву зони провідності на характеристики резонансного тунельного діода GaAs/AlxGa1 – xAs |
Authors |
Charmi, M.
|
ORCID | |
Keywords |
зсув зони провідності нерівноважна функція Гріна резонансний тунельний діод молярна частка Al квантовий транспорт conduction band offset non-equilibrium Green function (NEGF) resonant Tunneling Diode (RTD) Al mole fraction quantum transport |
Type | Article |
Date of Issue | 2022 |
URI | https://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/87651 |
Publisher | Sumy State University |
License | In Copyright |
Citation | M. Charmi, J. Nano- Electron. Phys. 14 No 2, 02007 (2022). DOI: https://doi.org/10.21272/jnep.14(2).02007 |
Abstract |
У роботі представлено дослідження впливу зсуву зони провідності та молярної частки алюмінію
на характеристики резонансного тунельного діода GaAs/AlxGa1 – xAs з використанням повного квантового моделювання. Моделювання базується на самоузгодженому розв'язанні рівняння Пуассона та рівняння Шредінгера з відкритими граничними умовами в рамках формалізму нерівноважної функції
Гріна. Структура резонансного тунельного діода складається з вузької забороненої зони 2 нм, квантова яма GaAs затиснута між двома тонкими широкозонними бар'єрами з AlGaAs шириною 2 нм. Ці три
шари затиснуті між двома нелегованими роздільними шарами з GaAs шириною 15 нм, які з'єднані з
двома великими резервуарами контактів GaAs з високим вмістом легуючих домішок (1018 см – 3) завширшки 12 нм. Досліджено вплив змінної молярної частки Al на зону провідності, функцію пропускання та вихідним струм. Результати моделювання показують, що характеристики пристрою можуть
бути покращені шляхом правильного вибору молярної частки. This paper presents the effects of conduction band offset and aluminum mole fraction on performance of GaAs/AlxGa1 – xAs resonant tunneling diode using full quantum simulation. The simulation is based on a self-consistent solution of the Poisson equation and Schrodinger equation with open boundary conditions, within the non-equilibrium Green function formalism. A resonant tunneling diode structure consists of a 2 nm narrow band gap, a quantum well of GaAs is sandwiched between two thin wide band gap barriers of AlGaAs with a width of 2 nm. These three layers are sandwiched between two un-doped GaAs spacer layers with a width of 15 nm that are connected to two large reservoirs of high dopant GaAs contacts (1018 cm – 3) with a width of 12 nm. The effects of varying Al mole fraction are investigated in terms of the conduction band, transmission function and output current. Simulation results illustrate that the device performance can be improved by proper selection of the mole fraction. |
Appears in Collections: |
Журнал нано- та електронної фізики (Journal of nano- and electronic physics) |
Views

1

1470002

76

78140305

511985

423

1

263390

2005

1

1

1

1

8658024

4394963

530178087

1

33186
Downloads

62806245

1

4394961

62806247

2006

1

65950

2006

1

1

1

257

32138120

1

16804061

415

530178084

436703715

33187
Files
File | Size | Format | Downloads |
---|---|---|---|
Charmi_jnep_2_2022.pdf | 285.58 kB | Adobe PDF | 1145935260 |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.