Development of Magnetic Field-enhanced Vacuum Arc Deposition in China

Zhao, Ya.; Lang, W.C.; Xiao, J.Q.; Yu, B.H.; Gong, J.; Sun, C.

Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/37232

Використовуйте наступні посилання для розповсюдження матеріалу в соціальних мережах: Рекомендувати цей матеріал

Назва	Development of Magnetic Field-enhanced Vacuum Arc Deposition in China
Автори	Zhao, Ya. Lang, W.C. Xiao, J.Q. Yu, B.H. Gong, J. Sun, C.
ORCID
Ключові слова	Vacuum arc deposition Magnetic field Cathode spot motion Droplet-particles reduction
Вид документа	Стаття
Дати випуску	2014
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу)	http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/37232
Видавець	Sumy State University
Ліцензія	Copyright не зазначено
Бібліографічний опис	Proc. NAP 3, 01PISERE01 (2014)
Короткий огляд (реферат)	This paper reviews the latest research and development in China for magnetic field-enhanced vacuum arc deposition (MFE-VAD). China has developed some new technologies in MFE-VAD. These technologies are all based on the interaction between the magnetic field and cathode arc spot (and arc plasma). An external magnetic field can be applied to steer the cathode spot motion including axisymmetric magnetic field (AMF), transverse rotating magnetic field (TRMF) and coupling magnetic field (CMF). The transverse component of AFM can accelerate the cathode spot motion. The TRMF covered the whole cathode was generated by stationary three-phase windings carrying three-phase alternating currents. The CMF was designed to improve the increasing of plasma density and the collisions between ion and droplet-particls (DPs) charging, and as well as further purify the DPs.
Розташовується у зібраннях:	Наукові видання (ЕлІТ)