Влияние безвакуумного отжига на морфологию покрытий NbNх, NbNx : Si

Abstract

В работе описываются особенности изменения нитридных покрытий NbNх и легированных атомами Si NbNx : Si с добавлением примеси кремния и без него. Образцы были получены методом магнетронного осаждения при отрицательном потенциале Us = – 40 В на подложку из кремния. После осаждения проводился высокотемпературный отжиг 800 °С в атмосфере воздуха.

У роботі описуються особливості зміни покриття нітриду ніобію з додаванням домішки кремнію і без нього. Зразки були отримані методом магнетронного осадження при негативному потенціалі Us = − 40 В на підкладку з кремнію. Після осадження проводився високотемпературний відпал 800 °С в атмосфері повітря.

The paper describes the features of niobium nitride coating changes with the addition of silicon and impurities without him. Samples were prepared by magnetron sputtering at a negative potential Us = − 40 V on silicon substrate, exposed to high temperatures: 800 °C without vacuum.