Апакідзе, Ю.І.2018-10-252018-10-252018Апакідзе, Ю.І. Формування двокомпонентних покриттів за допомогою магнетронних розпилювачів з пустотілим катодом [Текст]: робота за здобуття кваліфікаційного ступеня бакалавра; спец.: 6.050801 – мікро- та наноелектроніка / Ю.І. Апакідзе; наук. керівник Ю.О. Космінська. – Суми: СумДУ, 2018. – 53 с.http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/69116В роботі проведений аналіз сучасних методів групи магнетронного розпилення, розпилювальних пристроїв з пустотілим катодом; проведене математичне моделювання процесу осадження багатокомпонентних покриттів за допомогою технології магнетронного розпилення планарних складених мішеней у вигляді стрижнів на прикладі покриттів Ni-Cu; розраховано кількість осадженого матеріалу на підкладку в залежності від її положення, а також від конфігурації стрижнів.ukcneмагнетронне розпиленнямагнетронное распылениеmagnetron sputteringпустотілий катодполый катодhollow cathodeкосинусоїдальний закон розподілукосинусоидальный закон распределенияcosine distribution lawнікельникельnickelмідьмедьcopperФормування двокомпонентних покриттів за допомогою магнетронних розпилювачів з пустотілим катодомBachelous paper