Латишев, Віталій МихайловичЛатышев, Виталий МихайловичLatyshev, Vitalii MykhailovychПерекрестов, Вячеслав ІвановичПерекрестов, Вячеслав ИвановичPerekrestov, Viacheslav IvanovychКорнющенко, Ганна СергіївнаКорнющенко, Анна СергеевнаKorniushchenko, Hanna SerhiivnaЗагайко, Інна ВолодимирівнаЗагайко, Инна ВладимировнаZahaiko, Inna Volodymyrivna2017-11-292017-11-292017Formation of porous zinc nanosystems using direct and reverse flows of DC magnetron sputtering [Текст] / V.M. Latyshev, V.I. Perekrestov, A.S. Korniushchenko, I.V. Zahaiko // Functional materials. — 2017. — №24(1). — P. 154-161.0000-0003-1385-89810000-0002-2996-1003http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/64232У роботі проведено порівняльний аналіз двох механізмів структуроутворення наносистем Zn. У першому класичному варіанті формування наносистем відбувалося на підігрітих підкладках, які розташовані перед магнетронним розпилювачем. Другий варіант заснований на конденсації обернених дифузійних потоків розпиленої речовини на підкладки, які розташовані у порожнині магнетронного розпилювача. Показано, що у порівнянні з класичним варіантом, використання обернених дифузійних потоків призводить до більш вісокої відтворюваності технологічного процесу і до суттєвого підвищення швидості нарощування наносистем.The work is devoted to comparative analysis of two technological solutions for Zn nanosystems formation which have been implemented on the basis of direct-current magnetron sputtering. In the first case, conventional magnetron sputtering was used and direct flows were deposited on the substrate positioned in the front of sputterer. In the second case, reverse flows were used and the substrate was located inside the magnetron sputterer. It has been shown experimentally, that the second technological approach gives more reproducible results as compared to the classical one. In addition, usage of the reverse flows leads to significant increase in the nanosystems deposition ratesencnemetalszincnanomaterialsmagnetron sputteringcrystal morphologyметалицинкнаноматеріалиметаллынаноматериалымагнетронное распылениеморфология кристаллаArticle