Шовкопляс, Оксана АнатоліївнаШовкопляс, Оксана АнатольевнаShovkoplias, Oksana Anatoliivna2016-01-262016-01-262013Шовкопляс, О.А. Особливості формування структури іонно-плазмових покриттів твердих розчинів квазібінарних карбідних і боридних систем [Текст] / О.А. Шовкопляс // Фізика, електроніка, електротехніка : матеріали та програма науково-технічної конференції, м. Суми, 22-27 квітня 2013 р. / Відп. за вип. С.І. Проценко. - Суми : СумДУ, 2013. - С. 68.0000-0002-4596-2524http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/43816При отриманні покриттів квазібінарних систем фаз проникнення високі швидкості переохолодження, що властиві іонно-плазмовим методам осадження, створюють умови для формування пересиченого твердого розчину в нерівноважному стані концентраційного розшарування. У роботі систематизовані результати аналізу впливу умов формування на структурно-напружений стан іонно-плазмових покриттів квазібінарних систем Ti-W-B, Ti-W-C.ukcneтверді розчинитвердые растворыsolid solutionsіонно-плазмові покриттяионно-плазменные покрытияion-plasma coatingTheses