Журнал нано- та електронної фізики (Journal of nano- and electronic physics)
Permanent URI for this collectionhttps://devessuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/197
Browse
Search Results
Item Peculiarity of Magnetoresistance of Composite Materials Based on Co and SiO(Sumy State University, 2021) Пазуха, Ірина Михайлівна; Пазуха, Ирина Михайловна; Pazukha, Iryna Mykhailivna; Щоткін, Владислав Володимирович; Щеткин, Владислав Владимирович; Shchotkin, Vladyslav Volodymyrovych; Пилипенко, Олександр Валерійович; Пилипенко, Александр Валериевич; Pylypenko, Oleksandr Valeriiovych; Микитин, Василь Зіновійович; Микитин, Василий Зиновьевич; Mykytyn, Vasyl Zinoviiovych; Шкурдода, Юрій Олексійович; Шкурдода, Юрий Алексеевич; Shkurdoda, Yurii OleksiiovychСерія тонкоплівкових композитних матеріалів на основі Co та SiO була отримана методом одночасного електронно-променевого осадження з двох незалежних джерел. Концентрація атомів Со у тонкоплівковому зразку змінювалася у межах від 35 до 90 aт. %. Композиційний та елементний аналіз зразків визначався за допомогою скануючого електронного мікроскопу (Tescan VEGA3) з енергорозсіюючим рентгенівським (EDX) детектором (Oxford Instruments). Загальна товщина композитних матеріалів контролювалася за допомогою системи із двох незалежних кварцових резонаторів та становила 30 та 60 нм. Дослідження магніторезистивних властивостей було проведено для зразків у свіжосконденсованому стані. Згідно з отриманими даними поріг перколяції для системи на основі Co та SiO знаходиться в інтервалі концентрацій сСо = 60-70 ат. %. Із отриманих за кімнатної температури польових залежностей магнітоопору (МО) слідує, що електричний опір плівок зменшується при внесенні їх у магнітне поле (негативний магнітоопір). Реалізація негативного МО свідчить про те, що домінуючий ефект, який спостерігається, зумовлений спін-залежним тунелюванням електронів між феромагнітними наногранулами. Встановлено, що для свіжосконденсованих композитів на основі Co та SiOx товщиною d = 30-70 нм та за концентрації сСо = 40-60 ат. % реалізується ізотропний МО величиною 1.5-2.5 %. Максимум на концентраційних залежностях МО зміщується в область менших концентрацій Со при збільшенні товщини зразків.