Журнал нано- та електронної фізики (Journal of nano- and electronic physics)
Permanent URI for this collectionhttps://devessuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/197
Browse
Search Results
Item Моделирование процесса создания микрокомпонентов для вакуумной электроники и рентгеновской оптики с применением протонно-лучевой литографии(Сумский государственный университет, 2017) Пономарьов, Олександр Георгійович; Пономарев, Александр Георгиевич; Ponomarov, Oleksandr Heorhiiovych; Лапин, О.С.; Колинько, С.В.; Ребров, В.А.; Журба, В`ячеслав Олегович; Журба, Вячеслав Олегович; Zhurba, Viacheslav Olehovych; Петровський, Михайло Васильович; Петровский, Михаил Васильевич; Petrovskyi, Mykhailo Vasylovych; Коломиец, В.Н.; Кравченко, С.Н.Проведено численное моделирование процесса сканирования сфокусированным пучком протонов с энергией 1 МэВ в канале протонно-лучевой литографии на базе электростатического ускорителя с целью выбора размеров отклоняющих пластин электростатической сканирующей системы. Условием выбора были максимальная величина растра сканирования на поверхности облучаемого образца и минимизация отклонения пучка вдоль оптической оси. Разработана программа построения профиля сканирования пучком, который адекватно отображает шаблон создаваемых микрокомпонентов. Отработан процесс подготовки образцов с нанесением тонкого слоя резистивного материала. Определены дозы облучения образцов протонным пучком для получения условий полного травления облученной области. Проведены тестовые эксперименты по проверке работоспособности системы управления процессом сканирования.