Факультет електроніки та інформаційних технологій (ЕлІТ)

Permanent URI for this communityhttps://devessuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/20

Browse

Search Results

Now showing 1 - 2 of 2
  • Item
    Effect of Energy Factors on the Structure and Substructure Characteristics of Hafnium Diboride Films Deposited by RF Magnetron Sputtering
    (G. V. Kurdyumov Institute for Metal Physics of the N.A.S. of Ukraine, 2020) Гончаров, Максим Миколайович; Гончаров, Максим Николаевич; Honcharov, Maksym Mykolaiovych; Zykov, A.V.; Юнда, Андрій Миколайович; Юнда, Андрей Николаевич; Yunda, Andrii Mykolaiovych; Шелест, Ігор Владиславович; Шелест, Игорь Владиславович; Shelest, Ihor Vladyslavovych; Буранич, Володимир Володимирович; Буранич, Владимир Владимирович; Buranych, Volodymyr Volodymyrovych
    In this paper, the influence of energy factors, such as the bias potential, current density, deposition rate, on the formation of the structure and substructure of hafnium diboride films deposited using RF magnetron sputtering is analysed. As shown, the structural changes from a quasi-amorphous to a nanocrystalline state with a growth texture occur due to changes in energy factors.
  • Item
    Аналіз впливу параметрів магнетронного розпилення на формування наноструктурних покриттів TaB2
    (Сумський державний університет, 2018) Шелест, Ігор Владиславович; Шелест, Игорь Владиславович; Shelest, Ihor Vladyslavovych; Кравченко, Ярослав Олегович; Кравченко, Ярослав Олегович; Kravchenko, Yaroslav Olehovych; Буранич, Володимир Володимирович; Буранич, Владимир Владимирович; Buranych, Volodymyr Volodymyrovych; Бровко, Д.Ю.
    Тонкі покриття на основі боридів перехідних металів мають високу температуру плавлення та твердість, і знайшли широкий діапазон використання у різних галузях промисловості, за рахунок ефективного підвищення захисних властивостей. Для нанесення даних покриттів високу популярність здобув метод нереактивного магнетронного розпилення композиційних мішеней за участю іонного бомбардування, за рахунок високої варіативності в плані регулювання параметрів.