Получение пленок карбида кремния методом магнетронного распыления составной углерод-кремниевой мишени

dc.contributor.authorПерекрестов, Вячеслав Іванович
dc.contributor.authorПерекрестов, Вячеслав Иванович
dc.contributor.authorPerekrestov, Viacheslav Ivanovych
dc.contributor.authorКорнющенко, Ганна Сергіївна
dc.contributor.authorКорнющенко, Анна Сергеевна
dc.contributor.authorKorniushchenko, Hanna Serhiivna
dc.contributor.authorЗагайко, Інна Володимирівна
dc.contributor.authorЗагайко, Инна Владимировна
dc.contributor.authorZahaiko, Inna Volodymyrivna
dc.date.accessioned2015-07-02T10:44:09Z
dc.date.available2015-07-02T10:44:09Z
dc.date.issued2015
dc.description.abstractУ роботі проаналізовано відомі методи отримання конденсатів SiC, політипу цього з'єднання, а також запропонована методика отримання карбіду кремнію за допомогою магнетронного розпилення складових мішеней. Наведено розрахунки оптимальних геометричних характеристик складеної з кремнію і графіту мішені для магнетронного розпилення. За результатами дослідження структури конденсатів SiC за допомогою ПЕМ і дифракції електронів, а також на підставі визначення елементного складу при використанні енерго-дисперсійного аналізу були уточнені геометричні характеристики складової мішені, а також встановлені оптимальні технологічні умови отримання конденсатів у вигляді політипу 3С-SiC, з близьким до стехіометричного елементним складом.ru_RU
dc.description.abstractВ работе проанализированы известные методы получения конденсатов SiC, политипы этого соединения, а также предложена методика получения карбида кремния посредством магнетронного распыления составных мишеней. Приведены расчеты оптимальных геометрических характеристик составленной из кремния и графита распыляемой магнетроном мишени. По результатам исследования структуры конденсатов SiC при помощи ПЭМ и дифракции электронов, а также на основании определения элементного состава при использовании энерго-дисперсионного анализа были уточнены геометрические характеристики составной мишени, а также установлены оптимальные технологические условия получения конденсатов в виде политипа 3С-SiC, с близким к стехиометрическому элементным составом.ru_RU
dc.description.abstractIn the proposed work conventional methods of SiC layers formation and polytypes of this compound have been reviewed. A new methodology of silicon carbide obtaining has been proposed. It is based on magnetron sputtering of compound targets. The optimal geometrical characteristics of the compound targets made of silicon and graphite have been calculated. The condensates structure and composition were studied with help of transmission electron microscopy (TEM), electron diffraction along with the energy dispersive X-ray elemental analysis. On the basis of the investigations the geometrical characteristics of the compound target and the optimal technological parameters required for the formation of silicon carbide in the form of 3С-SiC polytype with element composition close to stoichiometric have been determined.ru_RU
dc.identifier.citationВ.И. Перекрестов, А.С. Корнющенко, И.В. Загайко, Ж. нано- электрон. физ. 7 № 2, 16 (2015)ru_RU
dc.identifier.sici0000-0002-2996-1003en
dc.identifier.urihttp://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/41462
dc.language.isoruru_RU
dc.publisherСумский государственный университетru_RU
dc.rights.uricneen_US
dc.subjectMS Карбид кремнияru_RU
dc.subjectМагнетронное распылениеru_RU
dc.subjectСоставная мишеньru_RU
dc.subjectМалые пересыщенияru_RU
dc.subjectСтехиометрияru_RU
dc.subjectФазовый составru_RU
dc.subjectЭлементный составru_RU
dc.subjectMS карбід кремніюru_RU
dc.subjectМагнетронне розпиленняru_RU
dc.subjectСкладова мішеніru_RU
dc.subjectМалі пересиченняru_RU
dc.subjectСтехіометріяru_RU
dc.subjectФазовий складru_RU
dc.subjectЕлементний складru_RU
dc.subjectSilicon carbideru_RU
dc.subjectMagnetron sputteringru_RU
dc.subjectCompound targetru_RU
dc.subjectLow supersaturationru_RU
dc.subjectStoichiometryru_RU
dc.subjectPhase compositionru_RU
dc.subjectElemental compositionru_RU
dc.titleПолучение пленок карбида кремния методом магнетронного распыления составной углерод-кремниевой мишениru_RU
dc.title.alternativeОтримання плівок карбіду кремнію методом магнетронного розпилення складового вуглець-кремнієвої мішеніru_RU
dc.title.alternativeFormation of Silicon Carbide Films by Magnetron Sputtering of Compound Carbon-silicon Targetru_RU
dc.typeArticleru_RU

Files

Original bundle

Now showing 1 - 1 of 1
No Thumbnail Available
Name:
Perekrestov.pdf
Size:
539.16 KB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:

License bundle

Now showing 1 - 1 of 1
No Thumbnail Available
Name:
license.txt
Size:
7.79 KB
Format:
Item-specific license agreed upon to submission
Description: