Кінетичні властивості плівкових систем на основі Ni і V та Ni і Ag(Au)

Abstract

Представлені результати досліджень кінетичних властивостей (питомий опір і температурний коефіцієнт опору) тришарових плівкових систем на основі Ni і V та Ni і Ag або Au загальною товщиною d = 25-55 нм. Порівняння експериментальних і розрахункових величин ТКО вказують на те, що у термовідпалених тришарових плівках на основі Ni і Ag зберігається індивідуальність окремих шарів, у той час як у плівках на основі Ni і Au, скоріше за все, відбувається утворення твердих розчинів; у плівках на основі Ni і V частково зберігається індивідуальність окремих шарів із стабілізацією твердих розчинів біля інтерфейсів.Представлены результаты исследований кинетических свойств (удельное сопротивление и температурный коэффициент сопротивления) трехслойных пленочных систем на основе Ni и V и Ni и Ag или Au общей толщиной d = 25-55 нм. Сравнение экспериментальных и расчетных величин ТКС указывают на то, что в отожженных трехслойных пленках на основе Ni и Ag сохраняется индивидуальность отдельных слоев, в то время как в пленках на основе Ni и Au, скорее всего, происходит образование твердых растворов; в пленках на основе Ni и V частично сохраняется индивидуальность отдельных слоев со стабилизацией твердых растворов возле интерфейсов.The results of kinetic properties (resistivity and temperature coefficient of resistance) of the three-layer film systems based on Ni and V and Ni, Ag or Au with total thickness d = 25-55 nm were presented here. Comparison of experimental and calculated values indicates that in annealing three-layer films based on Ni and Ag is saved individuality of separate layers, while in the films based on Ni and Au, most likely, the formation of solid solutions; in films based on Ni and V partially saved individuality of separate layers with stabilized of the solid solution near interfaces.