Influence of Annealing Temperature on the Structural and Optical Properties of TelluriumDoped ZnO Thin Films for Optoelectronic Applications

dc.contributor.authorSonawane, A.U.
dc.contributor.authorSonawane, B.K.
dc.date.accessioned2023-02-28T17:31:21Z
dc.date.available2023-02-28T17:31:21Z
dc.date.issued2023
dc.description.abstractДосліджено структурні, морфологічні та оптичні властивості тонких плівок ZnO, легованих Te, виготовлених на мікроскопічних скляних підкладках золь-гель методом. Для приготування розчину гелю використовували дигідрат ацетату цинку та тетрахлорид телуру як вихідні прекурсори і 2-метоксиетанол як розчинник. Осаджені плівки були потім відпалені при різних температурах, а їх властивості досліджені методами дифракції рентгенівських променів (XRD), скануючої електронної мікроскопії (FESEM) і UV-VIS спектрофотометра. Енергодисперсійний аналіз за допомогою рентгенівського випромінювання (EDAX) показує включення Te в ZnO. XRD спектр підтвердив, що нанесені плівки ZnO, леговані Te, мають гексагональну ґратку. Встановлено, що кристалічність плівок підвищується зі збільшенням температури відпалювання. Показано, що оптична заборонена зона відпалених плівок ZnO, легованих Te, збільшилася з 3,225 до 3,281 еВ. Вимірювання інтенсивності фотолюмінесценції ультрафіолетового та синього випромінювання тонких плівок було отримано в спектральному діапазоні від 350 до 600 нм.en_US
dc.description.abstractThe structural, morphological and optical properties of Te-doped ZnO thin films prepared on microscopic glass substrates using the sol-gel technique were investigated. Zinc acetate dihydrate and tellurium tetrachloride as starting precursors, 2-methoxy ethanol as solvent were used to prepare the gel solution. Deposited films were post-annealed at different temperatures and characterized by X-ray Diffraction (XRD), Field Emission Scanning Electron Microscopy (FESEM) and UV-VIS Spectrophotometer for studying structural, surface morphological and optical properties. Energy dispersive analysis by X-ray (EDAX) shows the incorporation of Te content into ZnO. XRD spectrum confirmed that the deposited Te-doped ZnO films are hexagonal. The crystallinity of films was found to be increased with an increase in post-annealing temperature. The optical band gap of Te-doped ZnO annealed films was found to be increased from 3.225 to 3.281 eV. Photoluminescence (PL) intensity of ultraviolet and blue emission measurements of the thin films was obtained in the spectral range from 350 to 600 nm.en_US
dc.identifier.citationA.U. Sonawane, B.K. Sonawane, J. Nano- Electron. Phys. 15 No 1, 01015 (2023) DOI: https://doi.org/10.21272/jnep.15(1).01015en_US
dc.identifier.urihttps://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/91093
dc.language.isoenen_US
dc.publisherSumy State Universityen_US
dc.rights.uriinc10en_US
dc.subjectзоль-гельen_US
dc.subjectXRDen_US
dc.subjectFESEMen_US
dc.subjectEDAXen_US
dc.subjectUV-VISen_US
dc.subjectsol-gelen_US
dc.titleInfluence of Annealing Temperature on the Structural and Optical Properties of TelluriumDoped ZnO Thin Films for Optoelectronic Applicationsen_US
dc.title.alternativeВплив температури відпалу на структурні та оптичні властивості легованих телуром тонких плівок ZnO для оптоелектронних застосуваньen_US
dc.typeArticleen_US

Files

Original bundle

Now showing 1 - 1 of 1
No Thumbnail Available
Name:
Sonawane_jnep_1_2023.pdf
Size:
526.23 KB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:

License bundle

Now showing 1 - 1 of 1
No Thumbnail Available
Name:
license.txt
Size:
3.96 KB
Format:
Item-specific license agreed upon to submission
Description: