Формирование неоднородной структуры в приповерхностных слоях TiNi в результате ионной имплантации

No Thumbnail Available

Date

2009

Journal Title

Journal ISSN

Volume Title

Publisher

Национальный научный центр "Харьковский физико-технический институт"
Article

Date of Defense

Scientific Director

Speciality

Date of Presentation

Abstract

В работе представлены результаты исследования структуры и химического состава NiTi после имплантации ионами N+, N+ и Ni+. Предложена модель процессов, происходящих в приповерхностных слоях NiTi. Показано, что в приповерхностном слое формируется двойной слой, состоящий из частично аморфизированной микроструктуры, обогащенной Ti и Ni, под которым находится слой микрокристаллической структуры, обогащенный Ti.
In work results researches of structure and chemical composition of NiTi, are presented after implantation, N+ and Ni+ the ions of N+. The model of processes, what be going on in the near-surface layers of NiTi is offered. Showed that a double layer, consisting of partly amorphous microstructure, enriched Ti and Ni, is formed in a near-surface layer, which a layer of microcrystalline structure is under, enriched Ti.

Keywords

структура, имплантация, свойства, модель, model, properties, implantatio, structure, імплантація, властивості

Citation

Формирование неоднородной структуры в приповерхностных слоях TiNi в результате ионной имплантации [Текст] / А.Д. Погребняк, N. Levintant, Л.В. Маликов, С.Н. Братушка и др. // Вопросы атомной науки и техники. Серия: Вакуум, чистые материалы, сверхпроводники. - 2009. - № 6(18). - С. 162-168.

Endorsement

Review

Supplemented By

Referenced By