Спосіб формування графену на поверхні тонкої плівки рутенію
dc.contributor.author | Чешко, Ірина Володимирівна | |
dc.contributor.author | Чешко, Ирина Владимировна | |
dc.contributor.author | Cheshko, Iryna Volodymyrivna | |
dc.contributor.author | Логвинов, Андрій Миколайович | |
dc.contributor.author | Логвинов, Андрей Николаевич | |
dc.contributor.author | Lohvynov, Andrii Mykolaiovych | |
dc.contributor.author | Костюк, Дмитро Миколайович | |
dc.contributor.author | Костюк, Дмитрий Николаевич | |
dc.contributor.author | Kostiuk, Dmytro Mykolaiovych | |
dc.contributor.author | Шабельник, Юрій Михайлович | |
dc.contributor.author | Шабельник, Юрий Михайлович | |
dc.contributor.author | Shabelnyk, Yurii Mykhailovych | |
dc.contributor.author | Ткач, Олена Петрівна | |
dc.contributor.author | Ткач, Елена Петровна | |
dc.contributor.author | Tkach, Olena Petrivna | |
dc.contributor.author | Проценко, Сергій Іванович | |
dc.contributor.author | Проценко, Сергей Иванович | |
dc.contributor.author | Protsenko, Serhii Ivanovych | |
dc.date.accessioned | 2021-04-05T08:23:53Z | |
dc.date.available | 2021-04-05T08:23:53Z | |
dc.date.issued | 2020 | |
dc.description.abstract | Спосіб формування графену на поверхні тонкої плівки рутенію включає формування шару графену на поверхні тонкої плівки рутенію. Спосіб складається з трьох етапів, де на першому етапі в вакуумній камері установки ВУП-5М, яка оснащена механічним форвакуумним та паромасляним дифузійним насосом, що утворює в камері тиск залишкових газів порядку 10-4 Па, які містять вуглецеві сполуки, на підкладці з пластини монокристалу кремнію з шаром діоксиду кремнію формують адгезійний вуглецевовмісний шар товщиною не більше 1 нм, на другому етапі методом вакуумного термічного осадження в тій же вакуумній камері, за допомогою електронно-променевої гармати діодного типу формують тонку плівку рутенію товщиною 20 нм, а на третьому етапі пластину зі сформованою тонкою плівкою рутенію розміщують у робочому об'ємі вакуумної установки D-356Asslar, що оснащена турбомолекулярним насосом, який забезпечує безмасляний вакуум високого ступеня, після чого підкладку з рутенієм відпалюють при температурі Тв=827 С протягом 15 хв. з наступним охолодженням, причому нагрівання і охолодження відбувається з постійною швидкістю 2-3 С/хв, в результаті на поверхні тонкої плівки рутенію формується шар графену. | en_US |
dc.identifier.citation | Пат. 144869 U Україна, C01B 32/184 (2017.01). Спосіб формування графену на поверхні тонкої плівки рутенію / І.В. Чешко, А.М. Логвинов, Д.М. Костюк та ін. (Україна); заявник та патентовласник Сумський держ. ун-т. - № u202003712; заявл. 19.06.2020; опубл. 26.10.2020, бюл. № 20. | en_US |
dc.identifier.sici | 0000-0002-1585-6712 | en |
dc.identifier.uri | https://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/83048 | |
dc.language.iso | uk | en_US |
dc.publisher | Український ін-т інтелектуальної власності | en_US |
dc.rights.uri | cne | en_US |
dc.subject | рутеній | en_US |
dc.subject | рутений | en_US |
dc.subject | ruthenium | en_US |
dc.subject | формування графену | en_US |
dc.subject | формирования графена | en_US |
dc.subject | graphene formation | en_US |
dc.subject | тонка плівка | en_US |
dc.subject | тонкая пленка | en_US |
dc.subject | thin film | en_US |
dc.title | Спосіб формування графену на поверхні тонкої плівки рутенію | en_US |
dc.type | Patent | en_US |