Топологічні особливості парофазних наноструктур SnTe на поліаміді

Abstract

Наведено результати дослідження наноструктур на поверхні тонких плівок станум телуриду, осаджених з парової фази на підкладках поліаміду методом відкритого випаровування у вакуумі. Комп’ютерний аналіз результатів атомно-силової мікроскопії виявив вплив технологічних факторів на особливості форм та поверхневої орієнтації наноострівців. Показано, що наноструктури різного розміру є куполоподібними з малим відношенням їх висоти до латерального діаметру. Встановлено слабку залежність симетрії острівців від технологічних факторів осадження.

Приведены результаты исследования наноструктур на поверхности тонких пленок теллурида олова, осажденных из паровой фазы на подложках полиамида методом открытого испарения в вакууме. Компьютерный анализ результатов атомно-силовой микроскопии выявил влияние технологических факторов на особенности форм и поверхностной ориентации наноостровков. Показано, что наноструктуры различного размера являются куполообразными с малым отношением их высоты к латеральному диаметра. Установлено слабую зависимость симметрии островков от технологических факторов осаждения.

The results of the study of nanostructures on the surface of tin telluride thin films deposited from the vapor phase on polyamide substrates by open evaporation in vacuum are presented. Computer analysis of the results of the atomic force microscopy has revealed the influence of the technological factors on the shape features and surface orientation of nanoislands. It is shown that nanostructures of various sizes are dome-shaped with a small ratio of height to lateral diameter. A weak dependence of the island symmetry on the technological factors of deposition is found.