Закономірності формування структури покриттів на основі гідроксиапатиту при осадженні методом магнетронного розпилення

Abstract

Робота присвячена дослідженню закономірностей формування структури покриттів на основі гідроксиапатиту при осадженні методом магнетронного розпилення. За результатами проведених досліджень виявлено, що для покриттів, обложених в атмосфері Ar + 10% H2O, товщина квазіаморфного перехідного шару на інтерфейсі «підкладка - покриття» на порядок менше, ніж в разі покриттів, сформованих в атмосфері Ar. При додаванні молекул H2O до складу плазмоутворюючого газу реалізуються умови зростання, при яких зародкоутворення кристалічної фази відбувається на більш ранніх стадіях. Встановлено ефект переважного розпилення фосфору з покриття при бомбардуванні поверхні конденсації компонентами плазми на основі результатів чисельного моделювання методом Монте-Карло профілю розподілу конденсованих атомів за допомогою програми SIMTRA і експериментальних даних про зміну ставлення Ca / P в покритті. Виявлено закономірності, що визначають кристалографічну орієнтацію і мікроструктурними будова текстурованих покриттів на основі ГА в залежності від ставлення іонного і атомного потоків, що досягають підкладку, які дозволяють проводити аналіз впливу просторової неоднорідності плазми і умов напилення на особливості структури покриттів.