Effect of ionly-plasma impact on the element composition and structural phase state of the system of Cu-Ti

Abstract

Представлені результати дослідження елементного складу та структурно-фазового стану системи Cu-Ti після впливу високої дози іонної імплантації та електронного відпалювання імпульсним низькоенергетич- ним високострумовим електронним пучком (НВЕП). Встановлено, що застосування імплантації з високою дозою ((5…8)∙1017 іон/см2) і подальшим впливом НВЕП призводить до зменшення концентрації титану, а застосування малої дози до 1∙1017 іон/см2 до його дифузії в глибину від поверхні. Дослідження структурно- фазового стану показало часткове випаровування прошарків карбіду-титану і формування субструктури.Представлены результаты исследования элементного состава и структурно-фазового состояния системы Cu-Ti после воздействия высокодозной ионной имплантации и электронного отжига импульсным низко- энергетическим высокотоковым электронным пучком (НВЭП). Установлено, что применение имплантации с высокой дозой ((5…8)∙1017 ион/см2) и последующим воздействием НВЭП приводит к уменьшению кон- центрации титана, а применение малой дозы до 1∙1017 ион/см2 к его диффузии в глубину от поверхности. Исследование структурно-фазового состояния показало частичное испарение прослоек карбида-титана и формирование субструктуры.The results of the investigations of the elemental composition and phase state of the Cu-Ti system after high-ion implantation and electron annealing by high-current electron beam (HCEB) are presented. It has been established that the use of high dose ((5…8)∙1017 ions/cm2) implantation and the subsequent effect of HCEB leads to a reduction in the concentration of titanium, and the use of a small dose to 1∙1017 ions/cm2 until it diffuses in depth from the surface. Investigation of the structural-phase state showed a partial evaporation of layers of carbide-titanium and the formation of a substructure.