Structural and Phase Elemental Distribution in Pulsed Plasma Coating Deposited with Cemented Carbide Cathode

dc.contributor.authorEfremenko, V.G.
dc.contributor.authorChabak, Yu.G.
dc.contributor.authorShimizu, K.
dc.contributor.authorPastukhova, T.V.
dc.contributor.authorEspallargas, N.
dc.contributor.authorFedun, V.I.
dc.contributor.authorZurnadzhy, V.I.
dc.date.accessioned2020-07-01T13:01:26Z
dc.date.available2020-07-01T13:01:26Z
dc.date.issued2020
dc.description.abstractМетою даної роботи є дослідження мікроструктурних особливостей покриття, одержаного імпульсно-плазмовою обробкою з використанням твердого сплаву WC-TiC-Со (Т15К6) у якості розхідного (еродуючого) електрода. Покриття наносили на низьколеговану конструкційну сталь 75Г1 за допомогою електротермічного аксіального плазмового прискорювача з потужністю дугового розряду до 20 МВт. В роботі використали мікроскопічний аналіз (за допомогою скандувальних мікроскопів Quanta FEG 650 FEI та Ultra-55 Carl Zeiss), енергодисперсійну спектроскопію (JED-2300, JEOL) та вимірювання мікротвердості (FM-300, Future-Tech Corp.) при навантаженні 20 г. Було встановлено, що після 10 плазмових імпульсів на поверхні сталі утворилось покриття товщиною 95-125 мм, а між покриттям та основою виник модифікований сталевий шар товщиною 33-40 мкм. Покриття складалось із матриці зі структурою високовуглецевого мартенситу або суміші мартенситу і залишкового аустеніту з мікротвердістю 415-977 HV (середнє значення 707 ± 113 HV). В межах матриці виявлено випадково розташовані глобулярні карбіди, збагачені вольфрамом (W,M)C або титаном (Ti,M)C діаметром 0,1-9,1 мм. Загальна об’ємна частка карбідів становила 15 %. EDS дослідження показало, що карбіди одночасно вміщували як вольфрам, так і титан, тобто вони не були "відірвані" з катоду і перенесені плазмовим потоком, а утворились in situ із рідини при кристалізації покриття. Матеріальний вклад катоду в формування покриття не перевищив 17 %, що пояснюється незначною ерозією твердого сплаву через високу температуру плавлення карбідів WC і TiC. Покриття в основному складалося з продуктів ерозії сталевого електроду (аноду) плазмового прискорювача. Матриця покриття виявилась легованою рядом елементів (W, Ti, Co, Cu), які еродували з поверхні катоду під час його плавлення та випаровування під дією високострумового розряду в камері прискорювача.en_US
dc.description.abstractThe object of this work is to study microstructural features of the coating obtained by pulsed-plasma deposition using cemented carbide WC-TiC-Со as an eroded electrode. The coating was deposited employing an electro-thermal axial plasma accelerator involving a pulse arc discharge with the power reached 20 MW. Cemented carbide (an alloy of T15K6 grade) was used as a tip of the cathode to be eroded under the discharge. The substrate material was low-alloyed structural steel 75Mn1. The investigations included scanning electron microscopy observation (Quanta FEG 650 FEI, Ultra-55 Carl Zeiss), energy-dispersive Xray spectroscopy (JED-2300, JEOL) and microhardness measurement (FM-300, Future-Tech Corp.) under the load of 20 g. It was shown that after 10 plasma impulses the coating of 95-125 µm thick was obtained tightly adjusted to the modified substrate layer. The coating consisted of high-carbon martensite or martensite/retained austenite matrix with a microhardness of 415-977 HV (mean value of 707 ± 113 HV) and of randomly distributed 2.1 vol. % globular carbides (W,M)C and (Ti,M)C of 0.2-8.5 µm diameter. EDS study revealed that the carbides were alloyed with tungsten and titanium both. It allowed to conclude that carbides were not transferred by plasma flux but they crystallized in situ from the melt deposited on the substrate surface. The contribution of cemented carbide to the coating formation was limited by 17 % which was explained by low cemented carbide erosion caused by the high temperature of carbides WC and TiC melting. The coating was mostly composed of the product of the erosion of a steel anode. The matrix was alloyed with the elements (W, Ti, Co, Cu), released from the cathode during its melting/evaporation under the high-current discharge.en_US
dc.identifier.citationStructural and Phase Elemental Distribution in Pulsed Plasma Coating Deposited with Cemented Carbide Cathode [Текст] / V.G. Efremenko, Yu.G. Chabak, K. Shimizu [et al.] // Журнал нано- та електронної фізики. – 2020. – Т. 12, № 3. – 03039. – DOI: 10.21272/jnep.12(3).03039.en_US
dc.identifier.urihttps://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/78378
dc.language.isoenen_US
dc.publisherSumy State Universityen_US
dc.rights.uricneen_US
dc.subjectімпульсно-плазмове нанесенняen_US
dc.subjectпокриттяen_US
dc.subjectтвердий сплавen_US
dc.subjectмікроструктураen_US
dc.subjectpulsed-plasma depositionen_US
dc.subjectcoatingen_US
dc.subjectcemented carbideen_US
dc.subjectmicrostructureen_US
dc.titleStructural and Phase Elemental Distribution in Pulsed Plasma Coating Deposited with Cemented Carbide Cathodeen_US
dc.title.alternativeСтруктурний і фазово-елементний розподіл у імпульсному плазмовому покритті, отриманому з використанням твердосплавного катодуen_US
dc.typeArticleen_US

Files

Original bundle

Now showing 1 - 1 of 1
No Thumbnail Available
Name:
Efremenko_jnep_3_2020.pdf
Size:
903 KB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:

License bundle

Now showing 1 - 1 of 1
No Thumbnail Available
Name:
license.txt
Size:
3.96 KB
Format:
Item-specific license agreed upon to submission
Description: