Формування двокомпонентних покриттів за допомогою магнетронних розпилювачів з пустотілим катодом
No Thumbnail Available
Date
2018
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Сумський державний університет
Bachelor’s paper
Date of Defense
Scientific Director
Speciality
Date of Presentation
Abstract
В роботі проведений аналіз сучасних методів групи магнетронного розпилення, розпилювальних пристроїв з пустотілим катодом; проведене математичне моделювання процесу осадження багатокомпонентних покриттів за допомогою технології магнетронного розпилення планарних складених мішеней у вигляді стрижнів на прикладі покриттів Ni-Cu; розраховано кількість осадженого матеріалу на підкладку в залежності від її положення, а також від конфігурації стрижнів.
Keywords
магнетронне розпилення, магнетронное распыление, magnetron sputtering, пустотілий катод, полый катод, hollow cathode, косинусоїдальний закон розподілу, косинусоидальный закон распределения, cosine distribution law, нікель, никель, nickel, мідь, медь, copper
Citation
Апакідзе, Ю.І. Формування двокомпонентних покриттів за допомогою магнетронних розпилювачів з пустотілим катодом [Текст]: робота за здобуття кваліфікаційного ступеня бакалавра; спец.: 6.050801 – мікро- та наноелектроніка / Ю.І. Апакідзе; наук. керівник Ю.О. Космінська. – Суми: СумДУ, 2018. – 53 с.