Формування двокомпонентних покриттів за допомогою магнетронних розпилювачів з пустотілим катодом
dc.contributor.author | Апакідзе, Ю.І. | |
dc.date.accessioned | 2018-10-25T12:03:57Z | |
dc.date.available | 2018-10-25T12:03:57Z | |
dc.date.issued | 2018 | |
dc.description.abstract | В роботі проведений аналіз сучасних методів групи магнетронного розпилення, розпилювальних пристроїв з пустотілим катодом; проведене математичне моделювання процесу осадження багатокомпонентних покриттів за допомогою технології магнетронного розпилення планарних складених мішеней у вигляді стрижнів на прикладі покриттів Ni-Cu; розраховано кількість осадженого матеріалу на підкладку в залежності від її положення, а також від конфігурації стрижнів. | ru_RU |
dc.identifier.citation | Апакідзе, Ю.І. Формування двокомпонентних покриттів за допомогою магнетронних розпилювачів з пустотілим катодом [Текст]: робота за здобуття кваліфікаційного ступеня бакалавра; спец.: 6.050801 – мікро- та наноелектроніка / Ю.І. Апакідзе; наук. керівник Ю.О. Космінська. – Суми: СумДУ, 2018. – 53 с. | ru_RU |
dc.identifier.uri | http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/69116 | |
dc.language.iso | uk | ru_RU |
dc.publisher | Сумський державний університет | ru_RU |
dc.rights.uri | cne | en_US |
dc.subject | магнетронне розпилення | ru_RU |
dc.subject | магнетронное распыление | ru_RU |
dc.subject | magnetron sputtering | ru_RU |
dc.subject | пустотілий катод | ru_RU |
dc.subject | полый катод | ru_RU |
dc.subject | hollow cathode | ru_RU |
dc.subject | косинусоїдальний закон розподілу | ru_RU |
dc.subject | косинусоидальный закон распределения | ru_RU |
dc.subject | cosine distribution law | ru_RU |
dc.subject | нікель | ru_RU |
dc.subject | никель | ru_RU |
dc.subject | nickel | ru_RU |
dc.subject | мідь | ru_RU |
dc.subject | медь | ru_RU |
dc.subject | copper | ru_RU |
dc.title | Формування двокомпонентних покриттів за допомогою магнетронних розпилювачів з пустотілим катодом | ru_RU |
dc.type | Bachelous paper | ru_RU |