Особливості процесу дифузії як базової інтегральної технології

No Thumbnail Available

Date

2021

Journal Title

Journal ISSN

Volume Title

Publisher

Сумський державний університет
Bachelor’s paper

Date of Defense

Scientific Director

Speciality

171 - Електроніка

Date of Presentation

June 2021

Abstract

Об’єктом дослідження кваліфікаційної роботи є дифузійні технології, які використовуються у виробництві елементів електроніки. Мета роботи – дослiдження особливостей технологічного процесу дифузiї для виготовлення елементів електроніки та вивчення алгоритмів його моделювання в програмі Silvaco TCAD. Робота складається із вступу, трьох розділів основної частини та висновків. У першому розділі наведено основні варіанти використання дифузії в інтегральній мікроелектроніці та її актуальність. У другому розділі розглядається основний функціонал програмного середовища TCAD Silvaco, що використовується для моделювання процесу дифузії, а також додаткові пакети яке розширюють функціонал даного продукту. У третьому розділі були успішно спроектовані структурні моделі ефекту випромінювача, дифузії в полікристалічному кремнію на основі зерна, перехідної посиленої дифузії за допомогою кластерів <311> та в осадження фосфору оксиду з використанням POCl.

Keywords

Дифузія, Диффузия, Diffusion, легування, легирование, doping, домішки, примеси, impurities, моделювання, моделирование, modeling, SILVACO TCAD, ATHENA, SSUPREM 4

Citation

Роман Ю.М. Особливості процесу дифузії як базової інтегральної технології [Текст]: робота на здобуття кваліфікаційного ступеня бакалавра; спец. 171 – Електроніка /Ю.М. Роман ; наук. кер. І.П. Бурик . – Суми: СумДУ, 2021. – 32 с.

Endorsement

Review

Supplemented By

Referenced By