Особливості процесу дифузії як базової інтегральної технології
dc.contributor.author | Роман, Ю.М. | |
dc.date.accessioned | 2021-07-09T08:02:12Z | |
dc.date.available | 2021-07-09T08:02:12Z | |
dc.date.issued | 2021 | |
dc.date.presentation | June 2021 | en_US |
dc.description.abstract | Об’єктом дослідження кваліфікаційної роботи є дифузійні технології, які використовуються у виробництві елементів електроніки. Мета роботи – дослiдження особливостей технологічного процесу дифузiї для виготовлення елементів електроніки та вивчення алгоритмів його моделювання в програмі Silvaco TCAD. Робота складається із вступу, трьох розділів основної частини та висновків. У першому розділі наведено основні варіанти використання дифузії в інтегральній мікроелектроніці та її актуальність. У другому розділі розглядається основний функціонал програмного середовища TCAD Silvaco, що використовується для моделювання процесу дифузії, а також додаткові пакети яке розширюють функціонал даного продукту. У третьому розділі були успішно спроектовані структурні моделі ефекту випромінювача, дифузії в полікристалічному кремнію на основі зерна, перехідної посиленої дифузії за допомогою кластерів <311> та в осадження фосфору оксиду з використанням POCl. | en_US |
dc.identifier.citation | Роман Ю.М. Особливості процесу дифузії як базової інтегральної технології [Текст]: робота на здобуття кваліфікаційного ступеня бакалавра; спец. 171 – Електроніка /Ю.М. Роман ; наук. кер. І.П. Бурик . – Суми: СумДУ, 2021. – 32 с. | en_US |
dc.identifier.uri | https://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/84520 | |
dc.language.iso | uk | en_US |
dc.publisher | Сумський державний університет | en_US |
dc.rights.uri | cne | en_US |
dc.speciality.id | [{"code": 13, "name": "Конотопський інститут СумДУ"}, {"code": 78, "name": "Кафедра електронних приладів і автоматики"}, {"code": 82, "name": "171 - Електроніка"}] | en_US |
dc.speciality.name | 171 - Електроніка | en_US |
dc.subject | Дифузія | en_US |
dc.subject | Диффузия | en_US |
dc.subject | Diffusion | en_US |
dc.subject | легування | en_US |
dc.subject | легирование | en_US |
dc.subject | doping | en_US |
dc.subject | домішки | en_US |
dc.subject | примеси | en_US |
dc.subject | impurities | en_US |
dc.subject | моделювання | en_US |
dc.subject | моделирование | en_US |
dc.subject | modeling | en_US |
dc.subject | SILVACO TCAD | en_US |
dc.subject | ATHENA | en_US |
dc.subject | SSUPREM 4 | en_US |
dc.title | Особливості процесу дифузії як базової інтегральної технології | en_US |
dc.title.alternative | Diffusion features as a basis integral technology | en_US |
dc.type | Bachelous paper | en_US |
Files
Original bundle
1 - 1 of 1
No Thumbnail Available
- Name:
- Roman_Diffusion_features.pdf
- Size:
- 2.26 MB
- Format:
- Adobe Portable Document Format
- Description:
License bundle
1 - 1 of 1
No Thumbnail Available
- Name:
- license.txt
- Size:
- 3.96 KB
- Format:
- Item-specific license agreed upon to submission
- Description: