Процеси структуроутворення покриттів на основі ZrN в умовах магнетронного розпилення
No Thumbnail Available
Date
2025
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Сумський державний університет
Theses
Date of Defense
Scientific Director
Speciality
Date of Presentation
Abstract
Методи іонно-плазмового розпилення характеризують направленість
потоку кластерів, що утворюють покриття, і в залежності від умов проведення
процесу призводить до різного структурного стану сформованих покриттів.
Осадження наноструктурованих покриттів можливе з використанням
покращеного вакуумного обладнання, отриманні інформації про процес
формування покриття при осадженні із застосуванням мікроскопії та аналізу його складу.
Keywords
іонно-плазмове розпилення, наноструктуровані покриття, магнетронне розпилення, ion-plasma sputtering, nanostructured coatings, magnetron sputtering
Citation
Пахненко Д. В, Ханюков К. С., Варакін В. О., Говорун Т. П. Процеси структуроутворення покриттів на основі ZrN в умовах магнетронного розпилення // Сучасні технології у промисловому виробництві : матеріали XII Всеукраїнської науково-технічної конференції, м. Суми, 22–25 квітня 2025 р. / редкол. : О. Г. Гусак, І. В. Павленко. Суми : Сумський державний університет, 2025. С. 63-64.