Диффузионные процессы и интерфейсное рассеяние электронов в пленочных системах на основе Cu/Fe и Fe/Cr

Synashenko, Oksana Volodymyrivna; Салтыкова, А.И.; Protsenko, Ivan Yukhymovych; Saltykova, A.I.

Please use this identifier to cite or link to this item: http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/2651

Or use following links to share this resource in social networks: Recommend this item

Title	Диффузионные процессы и интерфейсное рассеяние электронов в пленочных системах на основе Cu/Fe и Fe/Cr
Other Titles	Diffusion processes and interface electron scattering in film systems based on Cu/Fe and Fe/Cr
Authors	Synashenko, Oksana Volodymyrivna Салтыкова, А.И. Protsenko, Ivan Yukhymovych Saltykova, A.I.
ORCID	http://orcid.org/0000-0003-3351-9303
Keywords	ДИФФУЗИОННЫЙ ПРОФИЛЬ ВИМС КОЭФФИЦИЕНТ ДИФФУЗИИ ШЕРОХОВАТОСТЬ ИНТЕРФЕЙСА DIFFUSION PROFILE SIMS DIFFUSION COEFFICIENT INTERFACE ROUGHNESS
Type	Article
Date of Issue	2009
URI	http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/2651
Publisher	Изд-во СумГУ
License
Citation	О.В. Сынашенко, А.И. Салтыкова, И.Е. Проценко, Ж. нано- электрон. физ. 1 №2, 89 (2009)
Abstract	Приведены результаты исследования диффузионных процессов методами ВИМС и ОЭС в пленочных системах Cu/Fe и Fe/Cr; изучено влияние температуры отжига на эффективные коэффициенты термодиффузии. Рассчитаны величины коэффициента прохождения электронами интерфейса и эффективные коэффициенты диффузии при различных процессах: конденсационно-стимулированной, ионно-стимулированной и термодиффузии. // Eng Investigation results of diffusion processes by the SIMS and the AES methods in Cu/Fe and Fe/Cr film systems are represented; influence of the annealing temperature on the effective thermal diffusion coefficients is studied. Values of the interface transmission coefficient and the effective diffusion coefficients in different processes, namely, the condensation-stimulate diffusion, the ion-stimulate one, and the thermal diffusion, are calculated. При цитировании документа, используйте ссылку http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/2651
Appears in Collections:	Журнал нано- та електронної фізики (Journal of nano- and electronic physics)