Mechanism and Conditions of Nanoisland Structures Formation by Vacuum Annealing of Ultrathin Metal Films

Tomilin, S.V.; Yanovsky, A.S.

Please use this identifier to cite or link to this item: http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/31946

Or use following links to share this resource in social networks: Recommend this item

Title	Mechanism and Conditions of Nanoisland Structures Formation by Vacuum Annealing of Ultrathin Metal Films
Other Titles	Механизм и условия формирования наноостровковых структур при вакуумном отжиге сверхтонких металлических плёнок Механізм та умови формування наноострівцевих структур при вакуумному відпалі надтонких металевих плівок
Authors	Tomilin, S.V. Yanovsky, A.S.
ORCID
Keywords	Thin film Тонка плівка Тонкая пленка Vacuum annealing Вакуумний відпал Вакуумный отжиг Diffusion Диффузия Дифузія Nanoisland Наноостровок Наноострівець SEM РЕМ РЭМ
Type	Article
Date of Issue	2013
URI	http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/31946
Publisher	Сумський державний університет
License
Citation	S.V. Tomilin, A.S. Yanovsky, J. Nano- Electron. Phys. 5 No 3, 03014 (2013)
Abstract	В роботі представлені теоретичні та експериментальні результати досліджень наноострівцевих металевих покриттів на напівпровідникових підкладках, отриманих при вакуумному відпалі надтонких суцільних плівок. Експериментально показано, що формування острівцевої структури можливе тільки для плівок з товщиною більшою за деяке значення. Дослідження поверхневої морфології плівок проводилось з використанням РЕМ. При цитуванні документа, використовуйте посилання http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/31946 В работе представлены теоретические и экспериментальные результаты исследований наноостровковых металлических покрытий на полупроводниковых подложках, полученных при вакуумном отжиге сверхтонких сплошных плёнок. Экспериментально показано что формирование островковой структуры возможно только для плёнок с толщиной более некоторого значения. Исследование поверхностной морфологии плёнок производилось с использование РЭМ. При цитировании документа, используйте ссылку http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/31946 The paper presents theoretical and experimental results of studies of nanoisland metallic coatings on semiconductor substrates obtained by vacuum annealing of ultrathin solid films. It is shown experimentally that the formation of islet structure is possible only for films with thickness above a certain value. The study of surface morphology of the films was carried out using SEM. When you are citing the document, use the following link http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/31946
Appears in Collections:	Журнал нано- та електронної фізики (Journal of nano- and electronic physics)