Please use this identifier to cite or link to this item: http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/34188
Title: Влияние термического отжига на структуру дефектов и свойства наноструктурного покрытия Ti-Si-N, полученного катодным вакуумно-дуговым осаждением
Other Titles: Influence of thermal annealing on the structure of defects and properties of nanostructures Ti-Si-N coatings obtained by cathode vacuum arc deposition
Вплив термічного відпалу на структуру дефектів та властивості наноструктурованого покриття Ti-Si-N, отриманого катодним вакуумно-дуговим осадженням
Authors: Pohrebniak, Oleksandr Dmytrovych 
Krause-Rehberg, R.
Купчишин, А.И.
Дробышевская, А.А.
Иващенко, В.И.
Колесников, Д.А.
Ердибаева, Н.К.
Shypylenko, Andrii Pavlovych 
Keywords: наноструктурные покрытие
наноструктурне покриття
anostructured coating
напружено-деформований стан
напряженно-деформированное состояние
stress-strain state
Issue Year: 2013
Publisher: Национальный научный центр "Харьковский физико-технический институт"
Citation: Влияние термического отжига на структуру дефектов и свойства наноструктурного покрытия Ti-Si-N, полученного катодным вакуумно-дуговым осаждением [Текст] / А.Д. Погребняк, R. Krause-Rehberg, А.И. Купчишин[и др.] // ВАНТ. — 2013. — №2 (84). — С. 134-139.
Abstract: Представлено оригінальні результати, які отримані за допомогою методів повільного пучка позитронів, рентгенівського мікроаналізу, РЗР, РЕМ з ЕДС, АСМ, а також вимірювання нанотвердості, модуля пружності при дослідженні наноструктурних покриттів з Ti-Si-N, осаджених катодним вакуумно-дуговим випаровуванням до і після відпалу при температурі 600 °С (на протязі 30 хв). Виявлено утворення твердого розчину (Ti, Si) N, в якому формується напружено-деформований стан (деформація стиску − 2,6 %), а в результаті термічного відпалу деформація зменшується незначно − до 2,3 %. У покритті Ti-Si-N, як показали вимірювання S-параметра (ДУАП), за рахунок термодифузії на інтерфейсах сегрегують дефекти, утворюючи кластери вакансій їх дефектів з високою концентрацією − від 5·10[16]см-3 до 7,5·10[17] см-3. При цитуванні документа, використовуйте посилання http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/34188
Представлены оригинальные результаты, полученные с помощью методов медленного пучка позитронов, рентгеновского микроанализа, РОР, РЭМ с ЭДС, АСМ, а также измерения нанотвердости, модуля упругости наноструктурных покрытий из Ti-Si-N, осажденных катодным вакуумно-дуговым испарителем, до и после отжига при температуре 600 °С (в течение 30 мин). Обнаружено образование твердого раствора (Ti, Si)N, в котором формируется напряженно-деформированное состояние (деформация сжатия − 2,6 %), а в результате термического отжига деформация уменьшается незначительно − до величины 2,3 %. В покрытии Ti-Si-N, как показали измерения S-параметра (ДУАП), за счет термодиффузии на интерфейсах сегрегируют дефекты, образуя кластеры вакансионных дефектов с высокой концентрацией − от 5·10[16] до 7,5·10[17] см-3. При цитировании документа, используйте ссылку http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/34188
Original results of investigations of Ti-Si-N nanostructured coatings deposited by cathodic vacuum arc evaporation are presented in this work. Investigations are provided by the supplementing each other methods: slow positron beam, XRD, SEM with EDS, RBS, AFM, as well as measurement of nanohardness and elastic modulus before and after annealing at 600 °C (for 30 min). It was found that after deposition the solid solution (Ti, Si) N is formed in coatings. In this solid solution the stress-strain state (compressive strain – 2,6 %) is occurring. As a result of thermal annealing the deformation slightly decreases to – 2,3 %. Measurements provided by method of Positron annihilation spectroscopy (PAS) show that at the interfaces of coatings the segregated defects are occurring as a result of thermal diffusion process. These defects form clusters of vacancy-type defects of a high concentration – from 5·10[16]cm-3 to 7,5·10[17] cm-3. When you are citing the document, use the following link http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/34188
URI: http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/34188
Type: Article
Appears in Collections:Наукові видання (ЕлІТ)

Views
Other72
United Arab Emirates2
Brazil2
Germany12
Finland1
France4
United Kingdom7
Kazakhstan3
Netherlands3
Russia19
Turkey4
Ukraine14
United States29
Uzbekistan2
Downloads
Other132
Belarus2
China3
Germany2
France3
Kazakhstan2
Romania1
Russia38
Ukraine10
United States2
Uzbekistan2


Files in This Item:
File Description SizeFormatDownloads 
Pogrebnjak_Thermal Annealing Ti-Si-N.PDF810.29 kBAdobe PDF197Download


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.