Please use this identifier to cite or link to this item: http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/34188
Or use following links to share this resource in social networks: Recommend this item
Title Влияние термического отжига на структуру дефектов и свойства наноструктурного покрытия Ti-Si-N, полученного катодным вакуумно-дуговым осаждением
Other Titles Influence of thermal annealing on the structure of defects and properties of nanostructures Ti-Si-N coatings obtained by cathode vacuum arc deposition
Authors Pohrebniak, Oleksandr Dmytrovych  
Krause-Rehberg, R.
Купчишин, А.И.
Дробышевская, А.А.
Иващенко, В.И.
Колесников, Д.А.
Ердибаева, Н.К.
Shypylenko, Andrii Pavlovych  
Keywords наноструктурные покрытие
наноструктурне покриття
anostructured coating
напружено-деформований стан
напряженно-деформированное состояние
stress-strain state
Type Article
Date of Issue 2013
URI http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/34188
Publisher Национальный научный центр "Харьковский физико-технический институт"
License
Citation Влияние термического отжига на структуру дефектов и свойства наноструктурного покрытия Ti-Si-N, полученного катодным вакуумно-дуговым осаждением [Текст] / А.Д. Погребняк, R. Krause-Rehberg, А.И. Купчишин[и др.] // ВАНТ. — 2013. — №2 (84). — С. 134-139.
Abstract Представлено оригінальні результати, які отримані за допомогою методів повільного пучка позитронів, рентгенівського мікроаналізу, РЗР, РЕМ з ЕДС, АСМ, а також вимірювання нанотвердості, модуля пружності при дослідженні наноструктурних покриттів з Ti-Si-N, осаджених катодним вакуумно-дуговим випаровуванням до і після відпалу при температурі 600 °С (на протязі 30 хв). Виявлено утворення твердого розчину (Ti, Si) N, в якому формується напружено-деформований стан (деформація стиску − 2,6 %), а в результаті термічного відпалу деформація зменшується незначно − до 2,3 %. У покритті Ti-Si-N, як показали вимірювання S-параметра (ДУАП), за рахунок термодифузії на інтерфейсах сегрегують дефекти, утворюючи кластери вакансій їх дефектів з високою концентрацією − від 5·10[16]см-3 до 7,5·10[17] см-3. При цитуванні документа, використовуйте посилання http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/34188
Представлены оригинальные результаты, полученные с помощью методов медленного пучка позитронов, рентгеновского микроанализа, РОР, РЭМ с ЭДС, АСМ, а также измерения нанотвердости, модуля упругости наноструктурных покрытий из Ti-Si-N, осажденных катодным вакуумно-дуговым испарителем, до и после отжига при температуре 600 °С (в течение 30 мин). Обнаружено образование твердого раствора (Ti, Si)N, в котором формируется напряженно-деформированное состояние (деформация сжатия − 2,6 %), а в результате термического отжига деформация уменьшается незначительно − до величины 2,3 %. В покрытии Ti-Si-N, как показали измерения S-параметра (ДУАП), за счет термодиффузии на интерфейсах сегрегируют дефекты, образуя кластеры вакансионных дефектов с высокой концентрацией − от 5·10[16] до 7,5·10[17] см-3. При цитировании документа, используйте ссылку http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/34188
Original results of investigations of Ti-Si-N nanostructured coatings deposited by cathodic vacuum arc evaporation are presented in this work. Investigations are provided by the supplementing each other methods: slow positron beam, XRD, SEM with EDS, RBS, AFM, as well as measurement of nanohardness and elastic modulus before and after annealing at 600 °C (for 30 min). It was found that after deposition the solid solution (Ti, Si) N is formed in coatings. In this solid solution the stress-strain state (compressive strain – 2,6 %) is occurring. As a result of thermal annealing the deformation slightly decreases to – 2,3 %. Measurements provided by method of Positron annihilation spectroscopy (PAS) show that at the interfaces of coatings the segregated defects are occurring as a result of thermal diffusion process. These defects form clusters of vacancy-type defects of a high concentration – from 5·10[16]cm-3 to 7,5·10[17] cm-3. When you are citing the document, use the following link http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/34188
Appears in Collections: Наукові видання (ЕлІТ)

Views

Brazil Brazil
2
Finland Finland
1
France France
4
Germany Germany
12
Kazakhstan Kazakhstan
3
Netherlands Netherlands
3
Russia Russia
19
Turkey Turkey
4
Ukraine Ukraine
14
United Arab Emirates United Arab Emirates
2
United Kingdom United Kingdom
7
United States United States
29
Unknown Country Unknown Country
81
Uzbekistan Uzbekistan
2

Downloads

Belarus Belarus
2
China China
3
France France
3
Germany Germany
2
Kazakhstan Kazakhstan
2
Romania Romania
1
Russia Russia
38
Ukraine Ukraine
184
United States United States
2
Unknown Country Unknown Country
136
Uzbekistan Uzbekistan
2

Files

File Size Format Downloads
Pogrebnjak_Thermal Annealing Ti-Si-N.PDF 810,29 kB Adobe PDF 375

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.