Please use this identifier to cite or link to this item: http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/39082
Or use following links to share this resource in social networks: Recommend this item
Title Вплив лазерного відпалювання на морфологію поверхні та оптичні характеристики нанокремнієвих плівок
Other Titles Влияние лазерного отжига на морфологию поверхности и оптические характеристики нанокремниевых пленок
The Effect of Laser Annealing on the Surface Morphology and Optical Characteristics of Nanosilicon Films
Authors Родіонова, Т.В.
Сутягіна, А.С.
Гуменюк, А.Г.
Робур, Л.Й.
ORCID
Keywords Нанокристалічні плівки кремнію
Поверхневі неоднорідності
Ріст зерен
Лазерне відпалювання
Оптичні властивості
Нанокристаллические пленки кремния
Поверхностные неоднородности
Рост зерен
Лазерный отжиг
Оптические свойства
Nanocrystalline silicon films
Surface roughness
Grain growth
Laser annealing
Optical properties
Type Article
Date of Issue 2015
URI http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/39082
Publisher Сумський державний університет
License
Citation Т.В. Родіонова, А.С. Сутягіна, А.Г. Гуменюк, Л.Й. Робур, Ж. нано- електрон. фіз. 7 № 1, 01033 (2015)
Abstract Досліджено вплив лазерного відпалювання на мікрорельєф поверхні та оптичні властивості нанокристалічних плівок кремнію, що отримані методом хімічного осадженні з газової фази в реакторі зниженого тиску. Показано, що при взаємодії з лазерним випромінюванням в плівках відбувається рекристалізація, внаслідок якої має місце згладжування поверхневих неоднорідностей та формування зерен–агломератів. Такі структурні зміни призводять до зменшення вмісту оксиду кремнію в плівках за рахунок скорочення площі границь зерен. В спектрі поглинання плівок спостерігається додатковий максимум при 480 нм.
Исследовано влияние лазерного отжига на микрорельеф поверхности и оптические свойства нанокристаллических пленок кремния, полученных методом химического осаждения из газовой фазы в реакторе пониженного давления. Показано, что при взаимодействии с лазерным излучением в пленках происходит рекристаллизация, вследствие которой имеет место сглаживание поверхностных неоднородностей и образование зерен-агломератов. Такие структурные изменения приводят к уменьшению содержания оксида кремния в пленках за счет уменьшения площади границ зерен. В спектре поглощения пленок наблюдается дополнительный максимум при 480 нм.
The effect of laser annealing on the surface microrelief and optical properties of nanocrystalline silicon films, prepared by low pressure chemical vapor deposition, has been investigated. It is shown that under the interaction with the laser radiation recrystallization takes place in the films, due to which there is a smoothing of surface irregularities and forming of grain-agglomerates. These structural changes lead to the decrease in the content of the silicon oxide films by reducing the area of the grain boundaries. The additional peak at 480 nm is observed in the absorption spectrum of the films.
Appears in Collections: Журнал нано- та електронної фізики (Journal of nano- and electronic physics)

Views

Argentina Argentina
1
Canada Canada
1
China China
1
France France
1
Germany Germany
4021
Greece Greece
1
Hungary Hungary
1
Indonesia Indonesia
1
Ireland Ireland
2010
Lithuania Lithuania
1
Serbia Serbia
1
Ukraine Ukraine
49849
United Kingdom United Kingdom
25176
United States United States
276422
Unknown Country Unknown Country
49848

Downloads

Belgium Belgium
1
China China
2
France France
1
Germany Germany
14596
Italy Italy
1
Lithuania Lithuania
1
Romania Romania
14597
Singapore Singapore
1
Ukraine Ukraine
145510
United Kingdom United Kingdom
1
United States United States
407337
Unknown Country Unknown Country
3

Files

File Size Format Downloads
Rodionova.pdf 1.11 MB Adobe PDF 582051

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.