Please use this identifier to cite or link to this item:
http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/39090
Or use following links to share this resource in social networks:
Tweet
Recommend this item
Title | The Influence of the Ion Implantation of Au– to the Microstructure of the Amorphous-nanocrystaline AlN-TiB2-TiSi2 |
Other Titles |
Влияние ионной имплантации Au–на микроструктуру аморфно-нанокристаллического AlN-TiB2-TiSi2 Вплив іонної імплатнації Au–на мікроструктуру аморфно-нанокристалічного AlN-TiB2-TiSi2 |
Authors |
Smyrnova, K.V.
Demianenko, А.A. Radko, A.S. Pshyk, A.V. Kuzovlev, O.V. Amekura, H. Oyoshi, K. Takeda, Y. |
ORCID | |
Keywords |
Ion implantation Nanocrystallites Amorphous structures Vacancy Loops Interstitial types Іонна імплантація Нанокристаліти Аморфна структура Петлі вакансійного та міжвузельного типу Ионная имплантация Нанокристаллиты Аморфная структура Петли вакансионного и межузельного типа |
Type | Article |
Date of Issue | 2015 |
URI | http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/39090 |
Publisher | Sumy State University |
License | |
Citation | K.V. Smyrnova, А.A. Demianenko, A.S. Radko, et al., J. Nano- Electron. Phys. 7 No 1, 01040 (2015) |
Abstract |
Прямі вимірювання за допомогою TEM, HRTEM, XRD и SEM з мікроаналізом показали, що термічний відпал при 1300 °С на повітрі призводить до утворення нанорозмірних фаз 10÷15 нм з AlN,
AlB2, Al2O3 і TiO2, а іонна імплантація негативних іонів Au- призводить до фрагментації (зменшення)
розмірів нанозерен до 2-5 нм з утворенням «сфероїдів» з Au– і формуванню аморфної оксидної плівки в
глибині (приповерхневому шарі) покриття. Прямые измерения с помощью TEM, HRTEM, XRD и SEM с микроанализом показали, что термический отжиг 1300 С на воздухе приводит к образованию наноразмерных фаз 1015 нм из AlN, AlB2, Al2O3 и TiO2, а ионная имплантация отрицательных ионов Au- приводит к фрагментации (уменьшению) размеров нанозерен до 2-5 нм с образованием «сфероидов» из Au– и формированию аморфной оксидной пленки в глубине (приповерхностном слое) покрытия. Direct measurements were performed using TEM, HRTEM, XRD and SEM with microanalysis. The results showed that the thermal annealing at 1300 С in air leads to the formation of nanoscale phases 1015 nm from AlN, AlB2, Al2O3 and TiO2. Moreover, the ion implantation of the negative ions Au– causes fragmentation (decrease) of the size of nanograins to 2-5 nm with the formation of Au– clusters. In addition, the ion implantation leads to the formation of an amorphous oxide film in the depth (at the undersurface layer) of the coating. |
Appears in Collections: |
Журнал нано- та електронної фізики (Journal of nano- and electronic physics) |
Views
Canada
1
China
5
France
2
Germany
6
Greece
1
Hungary
1
Iran
1
Ireland
26731
Italy
2
Japan
1
Kazakhstan
1
Lithuania
1
Netherlands
1725
Philippines
1
Singapore
16772375
Slovakia
1
Sweden
1
Taiwan
1
Turkey
1
Ukraine
627637
United Kingdom
318991
United States
11777907
Unknown Country
627636
Downloads
Canada
1
China
30153032
France
1
Germany
13795
Greece
1
Hong Kong SAR China
1
India
1
Ireland
1
Japan
30153033
Lithuania
1
Philippines
1
Singapore
1
South Africa
1
Ukraine
1788972
United Kingdom
1
United States
30153031
Unknown Country
93121
Uzbekistan
3
Files
File | Size | Format | Downloads |
---|---|---|---|
Smyrnova_Demianenko.pdf | 657.75 kB | Adobe PDF | 92354998 |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.