Please use this identifier to cite or link to this item: http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/41509
Or use following links to share this resource in social networks: Recommend this item
Title Влияние высоковольтного импульсного потенциала, подаваемого на подложку, на фазовый состав и структуру вакуумно-дуговых покрытий TiN
Other Titles The Effect of High-voltage Pulse Potential Applied to the Substrate on the Phase Composition and Structure of the Vacuum-arc TiN Coatings
Вплив високовольтного імпульсного потенціалу, що подається на підкладку, на фазовий склад і структуру вакуумно-дугових покриттів TiN
Authors Соболь, О.В.
Пинчук, Н.В.
Андреев, А.А.
ORCID
Keywords TiN
Покрытия
Импульсное воздействие
Потенциал смещения
Длительность
Радиационный фактор
Текстура
Деформация
Покриття
Імпульсний вплив
Потенціал зсуву
Тривалість
Радіаційний фактор
Текстура
Деформація
Coatings
Pulse influence
Potential of bias
Duration
Radiation factor
Texture
Deformation
Type Article
Date of Issue 2015
URI http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/41509
Publisher Сумский государственный университет
License
Citation О.В. Соболь, Н.В. Пинчук, A.A. Aндреев, Влияние высоковольтного импульсного потенциала, подаваемого на подложку, на фазовый состав и структуру вакуумно-дуговых покрытий TiN. Ж. нано- электрон. физ. 7 № 2, 02042 (2015)
Abstract Проаналізовано вплив подачі високовольтного потенціалу в імпульсній формі різної тривалості на формування переважно орієнтованих кристалітів і напружено-деформований стан TiN вакуумнодугових покриттів. Показано, що осадження покриттів в умовах високовольного каскадоутворюючого впливу призводить до зростання кристалітів з віссю текстури [110] і до зміни напруженодеформованого стану: посилення деформації в групі кристаллитів з віссю [110] і зменшенню деформації в групі кристаллитов з віссю [111]. Отримані результати пояснені збільшенням рухливості атомів і процесами упорядкування в області каскадів зміщення, що утворюються під дією бомбардуючих високоенергетичних іонів, прискорених у полі високовольного імпульсного потенціалу. Побудовано узагальнену залежность типу текстури від величини імпульсного потенціалу та впливу частки тривалості імпульсу, що подається на підкладку, від загального часу осадження.
Проанализировано влияние подачи высоковольтного потенциала в импульсной форме разной длительности на формирование преимущественно ориентированных кристаллитов и напряженно- деформированное состояние TiN вакуумно-дуговых покрытий. Показано, что осаждение покрытий в условиях высоковольного каскадообразующего воздействия приводит к росту кристаллитов с осью текстуры [110] и изменению напряженно-деформированного состояния: усилению деформации в группе кристаллитов с осью [110] и уменьшению деформации в группе кристаллитов с осью [111]. Получен- ные результаты объяснены увеличением подвижности атомов и процессами упорядочения в области каскадов смещений, образующихся под действием бомбардирующих высокоэнергетичных ионов, ускоренных в поле высоковольного импульсного потенциала. Построена обобщенная зависимость типа текстуры от величины импульсного потенциала и влияния доли длительности импульса, подаваемого на подложку, от общего времени осаждения.
The effect of the high-voltage supply capacity in the form of different pulse duration on the formation of preferentially oriented crystallites and the stress-strain state of the vacuum-arc TiN coatings was analyzed. It is shown that the deposition of coatings in a high-voltage cascade forming exposure leads to the growth of the crystallites with axis texture [110] and the change in the stress-strain state: strengthening of a strain in a group of crystallites with the axis [110] and reduction of the strain in a group of crystallites with axis [111]. The results are explained by the increase in mobility of atoms and streamlining processes in the field of displacement cascades, formed under the influence of high-energy bombarding ions accelerated in the field of high-voltage pulse potential. A generalized graph of the texture type on the pulse potential and influence of the pulse duration, applied to the substrate, on the total deposition time are plotted.
Appears in Collections: Журнал нано- та електронної фізики (Journal of nano- and electronic physics)

Views

Belarus Belarus
1
Canada Canada
1
China China
85758751
France France
1
Germany Germany
18035
Greece Greece
9018
Indonesia Indonesia
1
Ireland Ireland
71379
Italy Italy
2
Japan Japan
5
Lithuania Lithuania
1
Netherlands Netherlands
2254
Russia Russia
1696451
Singapore Singapore
833179036
Slovakia Slovakia
1
Sweden Sweden
1
Ukraine Ukraine
7630270
United Kingdom United Kingdom
3957884
United States United States
833179038
Unknown Country Unknown Country
7630269

Downloads

China China
299307404
Germany Germany
9015
Hong Kong SAR China Hong Kong SAR China
1
India India
1
Japan Japan
3
Kazakhstan Kazakhstan
1
Lithuania Lithuania
1
Russia Russia
4
Singapore Singapore
1
Ukraine Ukraine
22712025
United Kingdom United Kingdom
1
United States United States
833179037
Unknown Country Unknown Country
142756
Uzbekistan Uzbekistan
3

Files

File Size Format Downloads
Sobol.pdf 702.94 kB Adobe PDF 1155350253

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.