Please use this identifier to cite or link to this item: http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/71474
Or use following links to share this resource in social networks: Recommend this item
Title Вплив умов нанесення тонких полімерних плівок в вакуумі на їх діелектричні властивості
Other Titles Influence of Deposition Conditions of Thin Polymer Films in Vacuum on Their Dielectric Properties
Authors Задорожний, В.Г.
Сергєєва, О.Є.
Keywords полімерні плівки
електронно-променеве нанесення
діелектрична проникність
діелектричні втрати
polymer films
electron-beam sputtering
dielectric permittivity
dielectric losses
Type Article
Date of Issue 2018
URI http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/71474
Publisher Сумський державний університет
License
Citation Задорожний, В.Г. Вплив умов нанесення тонких полімерних плівок в вакуумі на їх діелектричні властивості / В.Г. Задорожний, О.Є. Сергєєва // Журнал нано- та електронної фізики. - 2018. - Т.10, № 5. - 05010. - DOI: 10.21272/jnep.10(5).05010
Abstract У роботі описується вплив умов проведення вторинної полімеризації на діелектричні властивості тонких полімерних плівок (е' і tgб), отриманих розкладанням і конденсацією полімерів в вакуумі. Розкладання полімеру проводилося електронним променем. Змінними параметрами при ініціюванні вторинної полімеризації були потужність електронного променя, що опромінює підкладку, температура конденсації (підкладки), густина струму електронів, які бомбардують підкладку і їх енергія, а також напруга ВЧ розряду при газорозрядному нанесенні плівок. Найкращі параметри опромінення лежать в певному інтервалі, а саме: Е = 200-400 еВ; j = 0,2-0,3 мА/см2. Як показують результати дослідження структури виготовлених плівок, саме в цьому інтервалі енергій електронів в плівках міститься мінімальна кількість вільних радикалів і ненасичених зв'язків. А саме вони і є центрами асиметрії і погіршують діелектричні втрати в плівках, особливо на високих частотах.
Effect of the secondary polymerization conditions on the dielectric properties (е' and tgб) of thin polymer films deposited by decomposition and condensation of polymers in a vacuum was described. The decomposition of the polymer was carried out by an electron beam. Variable parameters during the initiation of the secondary polymerization were the power of the electron beam irradiating the substrate; the condensation (substrate) temperature; the current density of the electrons bombarding the substrate and their energy; and the high frequency discharge voltage during the gas-discharge deposition of the films. The best irradiation parameters were in a certain range, namely: E = 200-400 eV; j = 0.2-0.3 mA/cm2. The studying of the deposited films structure show that minimum amount of free radicals and unsaturated bonds was contained in this interval of the electron energies. Namely, they were the centers of asymmetry worsening dielectric losses in films, especially at high frequencies.
Appears in Collections: Журнал нано- та електронної фізики (Journal of nano- and electronic physics)

Views

Greece Greece
154
Lithuania Lithuania
1
Romania Romania
1
South Korea South Korea
1
Ukraine Ukraine
29
United Kingdom United Kingdom
77
United States United States
577
Unknown Country Unknown Country
7

Downloads

Lithuania Lithuania
1
Ukraine Ukraine
20
United Kingdom United Kingdom
1
Unknown Country Unknown Country
4

Files

File Size Format Downloads
Zadorozhniy_Vplyv_umov_ 05010.pdf 385,5 kB Adobe PDF 26

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.