Факультет електроніки та інформаційних технологій (ЕлІТ)
Permanent URI for this communityhttps://devessuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/20
Browse
15 results
Search Results
Item Effect of Energy Factors on the Structure and Substructure Characteristics of Hafnium Diboride Films Deposited by RF Magnetron Sputtering(G. V. Kurdyumov Institute for Metal Physics of the N.A.S. of Ukraine, 2020) Гончаров, Максим Миколайович; Гончаров, Максим Николаевич; Honcharov, Maksym Mykolaiovych; Zykov, A.V.; Юнда, Андрій Миколайович; Юнда, Андрей Николаевич; Yunda, Andrii Mykolaiovych; Шелест, Ігор Владиславович; Шелест, Игорь Владиславович; Shelest, Ihor Vladyslavovych; Буранич, Володимир Володимирович; Буранич, Владимир Владимирович; Buranych, Volodymyr VolodymyrovychIn this paper, the influence of energy factors, such as the bias potential, current density, deposition rate, on the formation of the structure and substructure of hafnium diboride films deposited using RF magnetron sputtering is analysed. As shown, the structural changes from a quasi-amorphous to a nanocrystalline state with a growth texture occur due to changes in energy factors.Item Моделювання процесу формування захисних покриттів на основі металів(Сумський державний університет, 2019) Владзієвська, П.А.Метою бакалаврської роботи є дослідження процесу масоперенесення розпилених атомів на підкладку при використанні іонного розпилювача cтрижнів.Item Мікроструктура та властивості AlN-TiB2-TiSi2 покриттів після високотемпературного відпалу та іонної імплантації(Сумський державний університет, 2018) Шахова, І.М.Тенденції постійного збільшення вимог щодо швидкості механічної обробки і якості деталей механізмів разом із встановленими екологічними стандартами, зумовлюють високі вимоги до матеріалів покриттів, зокрема, висока твердість і висока стійкість до окислення. Останнім часом сформувалася тенденція до розробки покриттів, що мають у своєму складі п'ять і більше елементів, правильно підібрана комбінація яких обумовлює унікальні переваги таких покриттів перед покриттями з меншою кількістю компонентів. Метою даної роботи є проведення комплексного дослідження структури, фазового складу, морфології поверхні та фізико-механічних характеристик покриття, отриманого методом імпульсного магнетронного розпилення багатокомпонентної мішені з низькою провідністю AlN-TiB2-TiSi2 і вивчення зміни властивостей покриття в результаті високотемпературного впливу.Item Формування двокомпонентних покриттів за допомогою магнетронних розпилювачів з пустотілим катодом(Сумський державний університет, 2018) Апакідзе, Ю.І.В роботі проведений аналіз сучасних методів групи магнетронного розпилення, розпилювальних пристроїв з пустотілим катодом; проведене математичне моделювання процесу осадження багатокомпонентних покриттів за допомогою технології магнетронного розпилення планарних складених мішеней у вигляді стрижнів на прикладі покриттів Ni-Cu; розраховано кількість осадженого матеріалу на підкладку в залежності від її положення, а також від конфігурації стрижнів.Item Моделювання процесу магнетронного розпилення в інструменті SIMTRA(Сумський державний університет, 2018) Соболєва, М.І.Основною задачею роботи є комп’ютерне моделювання залежності параметрів масоперенесення в процесі іонно-плазмового розпилення та осадження атомів від тиску та відстані між мішенню і підкладкою в планарному магнетронному розпилювачі з використанням інструменту SIMTRA (SImulation of Metal TRAnsport).Item Аналіз впливу параметрів магнетронного розпилення на формування наноструктурних покриттів TaB2(Сумський державний університет, 2018) Шелест, Ігор Владиславович; Шелест, Игорь Владиславович; Shelest, Ihor Vladyslavovych; Кравченко, Ярослав Олегович; Кравченко, Ярослав Олегович; Kravchenko, Yaroslav Olehovych; Буранич, Володимир Володимирович; Буранич, Владимир Владимирович; Buranych, Volodymyr Volodymyrovych; Бровко, Д.Ю.Тонкі покриття на основі боридів перехідних металів мають високу температуру плавлення та твердість, і знайшли широкий діапазон використання у різних галузях промисловості, за рахунок ефективного підвищення захисних властивостей. Для нанесення даних покриттів високу популярність здобув метод нереактивного магнетронного розпилення композиційних мішеней за участю іонного бомбардування, за рахунок високої варіативності в плані регулювання параметрів.Item Zinc-Nanosystem-Structure Formation Using Anodic-Oxidized Aluminum Membranes(Pleiades Publishing, Ltd., 2017) Корнющенко, Ганна Сергіївна; Корнющенко, Анна Сергеевна; Korniushchenko, Hanna Serhiivna; Перекрестов, Вячеслав Іванович; Перекрестов, Вячеслав Иванович; Perekrestov, Viacheslav Ivanovych; Наталіч, Вікторія Вадимівна; Наталич, Виктория Вадимовна; Natalich, Viktoriia Vadymivna; Загайко, Інна Володимирівна; Загайко, Инна Владимировна; Zahaiko, Inna VolodymyrivnaWe propose a new method for the formation of zinc nanosystems by condensation of a weakly supersaturated Zn vapor in pores of the anodic-oxidized aluminum membrane (AOA)–silicon substrate sys- tem. For this purpose, a weak Zn vapor flow is created by magnetron sputtering of Zn target in a high-purity inert gas atmosphere and maintaining a temperature of the porous AOA membrane outer surface higher than that of the substrate. This drives a directional Zn vapor flow inward membrane parallel to the pore generatrix and favors effective penetration of Zn vapor into the membrane.Item Formation of porous zinc nanosystems using direct and reverse flows of DC magnetron sputtering(STC Institute for single Crystals, 2017) Латишев, Віталій Михайлович; Латышев, Виталий Михайлович; Latyshev, Vitalii Mykhailovych; Перекрестов, Вячеслав Іванович; Перекрестов, Вячеслав Иванович; Perekrestov, Viacheslav Ivanovych; Корнющенко, Ганна Сергіївна; Корнющенко, Анна Сергеевна; Korniushchenko, Hanna Serhiivna; Загайко, Інна Володимирівна; Загайко, Инна Владимировна; Zahaiko, Inna VolodymyrivnaУ роботі проведено порівняльний аналіз двох механізмів структуроутворення наносистем Zn. У першому класичному варіанті формування наносистем відбувалося на підігрітих підкладках, які розташовані перед магнетронним розпилювачем. Другий варіант заснований на конденсації обернених дифузійних потоків розпиленої речовини на підкладки, які розташовані у порожнині магнетронного розпилювача. Показано, що у порівнянні з класичним варіантом, використання обернених дифузійних потоків призводить до більш вісокої відтворюваності технологічного процесу і до суттєвого підвищення швидості нарощування наносистем.Item Ефект зниження порогу перколяції у надтонких плівках срібла при квазирівноважній конденсації та дії плазми на ростову поверхню(Інститут металофізики ім. Г. В. Курдюмова НАН України, 2016) Космінська, Юлія Олександрівна; Косминская, Юлия Александровна; Kosminska, Yuliia Oleksandrivna; Перекрестов, Вячеслав Іванович; Перекрестов, Вячеслав Иванович; Perekrestov, Viacheslav Ivanovych; Загайко, Інна Володимирівна; Загайко, Инна Владимировна; Zahaiko, Inna VolodymyrivnaВивчено закономірності структуроутворення надтонких плівок срібла на відколах KCl, а також на відколах KCl, покритих шаром полімеру PC403 або ma-N405. Виявлено ефект, еквівалентний зниженню порогу перколяції. Він є наслідком використання методики осадження, при якій на поверхню підложжя безпосередньо діє низькотемпературна плазма та пари конденсуються за умов, близьких до термодинамічної рівноваги. На основі досліджень за допомогою просвітлювальної електронної мікроскопії й електронної дифракції встановлено, що зародження плівки срібла відбувається у вигляді формування надтонкого аморфного шару, а при подальшому нарощуванні плівки стається поступовий перехід у полікристалічний стан або зародження та ріст незв’язаних один з одним об’ємних кристалів.Item Роль азота в формировании наноколонарных пленок нитрида углерода при реактивном магнетронном осаждении(Сумский государственный университет, 2016) Пасько, М.И.; Прудников, А.М.Наноструктурный нитрид углерода имеет большие перспективы применения от водородной энергетики до функциональных сенсорных элементов. Одним из методов получения такого рода материалов является магнетронное распыление. Особенностью магнетронного разряда является образование быстрых атомов и вторичных электронов в результате бомбардировки катода ионами, которые обеспечивают самоподдерживающийся разряд. Из-за большей плотности атомов распыляемого вещества по сравнению с плотностью атомов насыщенного пара происходит нуклеация пара, приводящая к образованию кластеров.