Application of focused charge‐particle beams of in manufacturing of nanocomponents

Vorobiov, Hennadii Saveliiovych; Ponomarev, А.G.; Ponomareva, А.А.; Drozdenko, Oleksii Oleksandrovych; Rybalko, А.А.

Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/3912

Використовуйте наступні посилання для розповсюдження матеріалу в соціальних мережах: Рекомендувати цей матеріал

Назва	Application of focused charge‐particle beams of in manufacturing of nanocomponents
Автори	Воробйов, Геннадій Савелійович Ponomarev, А.G. Ponomareva, А.А. Дрозденко, Олексій Олександрович Rybalko, А.А.
ORCID	http://orcid.org/0000-0002-0047-739X
Ключові слова	manufacturing focused beam nanoelectronics beam litography
Вид документа	Стаття
Дати випуску	2010
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу)	http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/3912
Видавець	Telecommunications and Radio Engineering
Ліцензія
Бібліографічний опис	Application of focused charge-particle beams of in manufacturing of nanocomponents[Текст] /G.S.Vorobyov, А.G.Ponomarev, А.А.Ponomareva [та ін.] // Telecommunications and Radio Engineering. — 2010. — №69(4). — pp. 355-365
Короткий огляд (реферат)	Application of focused beams of medium energy light ions, electrons and low energy heavy ions is considered for the technology of manufacturing of small-dimension components. Physical principles applied as the basis for interaction of the above beams with resistive materials are described. The proton beam lithography is considered as a new technology possessing high potential capabilities for various applications like micro-optics and nanoelectronics of terahertz wave band. When you are citing the document, use the following link http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/3912
Розташовується у зібраннях:	Наукові видання (ЕлІТ)