Please use this identifier to cite or link to this item: http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/67912
Or use following links to share this resource in social networks: Recommend this item
Title Аналіз впливу параметрів магнетронного розпилення на формування наноструктурних покриттів TaB2
Authors Shelest, Ihor Vladyslavovych
Kravchenko, Yaroslav Olehovych  
Buranych, Volodymyr Volodymyrovych
Бровко, Д.Ю.
Keywords тонкі покриття
тонкие покрытия
thin coatings
наноструктурні покриття
наноструктурные покрытия
nanostructured coatings
магнетронне розпилення
магнетронное распыление
magnetron sputtering
Type Conference Papers
Date of Issue 2018
URI http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/67912
Publisher Сумський державний університет
License
Citation Аналіз впливу параметрів магнетронного розпилення на формування наноструктурних покриттів TaB2 [Текст] / І.В. Шелест, В.В. Буранич, Д.Ю. Бровко, Я.О. Кравченко // Фізика, електроніка, електротехніка: матеріали та програма науково-технічної конференції, м. Суми, 5-9 лютого 2018 р. / Відп. за вип. С.І. Проценко. – Суми: СумДУ, 2018. – С. 49.
Abstract Тонкі покриття на основі боридів перехідних металів мають високу температуру плавлення та твердість, і знайшли широкий діапазон використання у різних галузях промисловості, за рахунок ефективного підвищення захисних властивостей. Для нанесення даних покриттів високу популярність здобув метод нереактивного магнетронного розпилення композиційних мішеней за участю іонного бомбардування, за рахунок високої варіативності в плані регулювання параметрів.
Appears in Collections: Наукові видання (ЕлІТ)

Views

Ukraine Ukraine
13
Unknown Country Unknown Country
11

Downloads

Unknown Country Unknown Country
7

Files

File Size Format Downloads
Shelest_Buranych_Brovko_Kravchenko.pdf 433,91 kB Adobe PDF 7

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.