Please use this identifier to cite or link to this item: https://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/85949
Or use following links to share this resource in social networks: Recommend this item
Title Investigation of Deposition Conditions of Thin Copper Films from Electrode Destruction Products of Overvoltage High-voltage Discharge in High Pressure Argon
Other Titles Дослідження умов осадження тонких плівок міді з продуктів деструкції електродів перенапруженого високовольтного розряду в аргоні високого тиску
Authors Shuaibov, O.K.
Mynia, O.Y.
Chyhin, V.I.
Hrytsak, R.V.
Malinina, A.O.
Vatrala, M.I.
Homoki, Z.T.
ORCID
Keywords високовольтний наносекундний розряд
мідь
плазма
УФ-випромінювання
high-voltage nanosecond discharge
copper
plasma
UV radiation
Type Article
Date of Issue 2021
URI https://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/85949
Publisher Sumy State University
License In Copyright
Citation O.K. Shuaibov, O.Y. Mynia, et al., J. Nano- Electron. Phys. 13 No 5, 05003 (2021). DOI: https://doi.org/10.21272/jnep.13(5).05003
Abstract Приведено характеристики високовольтного наносекундного розряду між мідними електродами в аргоні при тисках 100-150 кПа. В процесі мікровибухів неоднорідностей на робочих поверхнях електродів в сильному електричному полі у розрядний проміжок вносились пари міді за рахунок утворення ектонів. Це створювало передумови для синтезу тонких наноструктурованих плівок міді ультрадисперсного порошку міді. Плівки міді осаджувались на діелектричній підкладці, що була встановлена поблизу системи електродів. Досліджено просторові і електричні характеристики високовольтного наносекундного розряду при віддалі між електродами d = 2 мм. Проведено вивчення спектрів випромінювання розряду і осцилограм випромінювання найбільш інтенсивних спектральних ліній та смуг, що дозволило встановити основні збуджені продукти, які утворювались в плазмі. Наведено результати оптимізації інтенсивності УФ-випромінювання розряду в залежності від частоти, величини зарядної напруги і міжелектродної віддалі. Проведена оптимізація усередненого за часом УФ-випромінювання точкового випромінювача в залежності від напруги живлення високовольтного модулятора і частоти слідування розрядних імпульсів. Досліджено спектри пропускання світла синтезованими в експерименті тонкими плівками міді.
The characteristics of a high-voltage nanosecond discharge between copper electrodes in argon at pressures of 100-150 kPa are given. In the process of microexplosions of inhomogeneities on the working surfaces of electrodes in a strong electric field, copper vapors were introduced into the discharge gap due to the formation of ectons. This created the preconditions for the synthesis of thin nanostructured copper films of ultrafine copper powder. Copper films were deposited on a dielectric substrate installed near the electrode system. The spatial and electrical characteristics of high-voltage nanosecond discharge at a distance between the electrodes d = 2 mm were studied. The study of radiation spectra of discharge and oscillograms of radiation of the most intense spectral lines and bands was carried out, which allowed to establish the main excited products formed in plasma. The results of optimization of the intensity of UV radiation of discharge depending on the frequency, magnitude of the charging voltage and interelectrode distance are presented. The time-averaged UV radiation of the point emitter was optimized depending on the supply voltage of the high-voltage modulator and the frequency of discharge pulses. The light transmission spectra of thin copper films synthesized in the experiment were studied.
Appears in Collections: Журнал нано- та електронної фізики (Journal of nano- and electronic physics)

Views

China China
20885902
Greece Greece
1
Ireland Ireland
82047
Lithuania Lithuania
1
Sweden Sweden
1
Ukraine Ukraine
602967
United Kingdom United Kingdom
258108
United States United States
57758047
Unknown Country Unknown Country
602966
Vietnam Vietnam
711

Downloads

China China
1
France France
1
Germany Germany
258107
Iran Iran
1
Ireland Ireland
14533
Lithuania Lithuania
1
Singapore Singapore
2558
South Korea South Korea
1
Sweden Sweden
1
Ukraine Ukraine
1805197
United Kingdom United Kingdom
1
United States United States
57758048
Vietnam Vietnam
1

Files

File Size Format Downloads
Shuaibov_jnep_5_2021.pdf 649,61 kB Adobe PDF 59838451

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.